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東莞機械面板腐蝕加工工廠的行業(yè)須知

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發(fā)布時間:2020-09-09 08:13  






廣州市茂美標牌加工廠,座落于番禺區(qū)橋南街陳涌工業(yè)區(qū),專注于腐蝕面板加工,腐蝕面板定制,機械控制面板定做,不銹鋼蝕刻面板加工,機械面板腐蝕定制,設備蝕刻面板加工,腐蝕機械面板定制,機箱設備面板定制、電子秤按鍵面板定做等,接單領域主要集中在廣州、深圳 、佛山 、東莞、中山、珠海、江門、肇慶、惠州等地,均可加工定制生產(chǎn)。產(chǎn)品還有腐蝕標牌,不銹鋼直尺加工、鋁銘牌制作、不銹鋼銘牌制作、機械設備控制面板、亞克力標牌等。制作工藝:UV印刷、噴漆、絲印、熱轉印、凹凸,沖壓、磨光、拉絲、電鍍、氧化、噴砂、激光、注塑、磨光、電鑄、腐蝕等一體化的大型專業(yè)標牌加工制作廠。經(jīng)過現(xiàn)場調查和走訪,我們對充電樁銹蝕的部位及原因進行了針對性的分析。

廣州市茂美標牌加工廠——廣州腐蝕面板加工,廣州腐蝕面板定制,廣州機械控制面板定做,機箱設備面板定制等。

常見蝕刻減薄工藝和設備都有哪些特點?

對于LCD面板/玻璃基板的不同減薄工藝的優(yōu)劣,在薄化行業(yè)實際生產(chǎn)運用時,一直都很多不同聲音和爭議。由于不同蝕刻減薄產(chǎn)品和作業(yè)環(huán)境,以及客戶需求等實際情況,從整體的生產(chǎn)加工需要而言,相同的設備在不同企業(yè)中,不同的企業(yè)管理,操作工藝和設備改造情況,也會有著不同生產(chǎn)作業(yè)效果。在此,我們對目前大家常見或已有一定共識理解的薄化行業(yè)中蝕刻減薄工藝和設備使用情況,進行一些概述。所以又可以細分為Pre-PVDClean和Pre-CVDClean。

廣州市茂美標牌加工廠——廣州不銹鋼蝕刻面板加工,廣州機械面板腐蝕定制,設備蝕刻面板加工,腐蝕機械面板定制等。

蝕刻的作用:線路成型。

蝕刻分為干蝕刻與濕蝕刻,其區(qū)別如下:

干蝕刻:利用不易被物理、化學作用破壞的物質光阻來阻擋不欲去除的部分,利用電漿的離子轟擊效應和化學反 應去掉 想去除的部分,從而將所需要的 線路圖形留在玻璃基板上。干蝕刻等向性蝕刻與異向性蝕刻同時存在。

濕蝕刻:利用化學藥液將需要蝕刻掉的物質蝕刻掉。濕蝕刻為等向性蝕刻。濕蝕刻機臺便宜,蝕刻速度快,但難以精x確控制線寬和 獲得極其精細的圖形并且需要大量用水,污染大 ;只有異常穩(wěn)定的密封劑,如碳氟化合物密封劑、氟橡膠或聚硫橡膠才可以抵抗該冷卻液。干蝕刻機臺價格昂貴,蝕刻速度速度慢,但可以精x確控制線寬能獲得極其精細的圖形,而且 不需要用水,污染小。


廣州市茂美標牌加工廠,座落于番禺區(qū)橋南街陳涌工業(yè)區(qū),專注于腐蝕面板加工,腐蝕面板定制,機械控制面板定做,不銹鋼蝕刻面板加工,機械面板腐蝕定制,設備蝕刻面板加工,腐蝕機械面板定制,機箱設備面板定制、電子秤按鍵面板定做等,接單領域主要集中在廣州、深圳 、佛山 、東莞、中山、珠海、江門、肇慶、惠州等地,均可加工定制生產(chǎn)。車輛受大氣環(huán)境的腐蝕十分嚴重,通常新車運行1年后就產(chǎn)生銹斑,2年左右就有腐蝕穿孔現(xiàn)象發(fā)生。產(chǎn)品還有腐蝕標牌,不銹鋼直尺加工、鋁銘牌制作、不銹鋼銘牌制作、機械設備控制面板、亞克力標牌等。制作工藝:UV印刷、噴漆、絲印、熱轉印、凹凸,沖壓、磨光、拉絲、電鍍、氧化、噴砂、激光、注塑、磨光、電鑄、腐蝕等一體化的大型專業(yè)標牌加工制作廠。

頂噴式減薄工藝原理和流程工藝原理

設備采用頂部噴灑方式進行蝕刻減薄LCD面板/玻璃基板。這種焊接在電梯、汽車、家電等行業(yè)中都有大量應用前景,但是國內外一直未獲得滿意解決,其中尤以電梯行業(yè)面臨的問題最為迫切。通過專用噴頭等噴淋裝置,以近似于霧狀的噴淋方式,將蝕刻藥液均勻的噴灑在蝕刻產(chǎn)品表面。工作過程中被蝕刻的玻璃基板等產(chǎn)品通過特定的匣具(Cassette)垂直固定,通過噴淋裝置從頂部噴灑,并且在蝕刻產(chǎn)品的表面形成瀑布狀蝕刻流,通過智能自動化PLC電氣控制系統(tǒng),以及在線監(jiān)控和過濾等輔助系統(tǒng)裝置,實現(xiàn)類同于雙面瀑布流蝕刻的自動化減薄。同時通過形成的瀑布蝕刻流沖刷帶走蝕刻后的反應物,避免反應物在蝕刻產(chǎn)品表面的沉積和粘附,有效提高蝕刻減薄效率和減薄產(chǎn)品的良率。

Plasma在干蝕刻中的應用在高周波電場中電子被來回加速,加速后的電子轟擊氣體分子或原子,使分子或粒子解離出新的電子(α作用) 而產(chǎn)生Ion,或者使分子解離為高活性的自由基。高活性的自由基會和玻璃基板表面所鍍的薄膜物質進行反應。

因此Plasma被用在半導體,LCD行業(yè)中Etching的工藝中,多用在硅和硅的化合物(SiNx、SiOx 等)的蝕刻工藝,隨著設備的改進,也可用于金屬鋁的蝕刻。

Plasma蝕刻設備昂貴,但生產(chǎn)過程中耗費的Material非常少, Plasma蝕刻的優(yōu)點在于:蝕刻的精ds確度很好,速度快,蝕刻均一性好,化學品消耗低(較酸液蝕刻)。


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