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金屬真空鍍膜價(jià)格武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務(wù)的廠家,主要鍍膜產(chǎn)品有不銹鋼,鐵,鋁合金,玻璃制品,塑料工藝制品等,鍍膜顏色多樣豐富,可根據(jù)客戶的產(chǎn)品進(jìn)行設(shè)計(jì)和定制。
恒緣鈦金與您分享鍍膜作用。
易清洗。電離子鍍膜具有chao強(qiáng)的自潔性和撥水性,不易沾附灰塵、污澤,清洗時(shí)只用清水即可達(dá)到清洗的效果,使車輛保持高清潔度和光澤度。
超持久強(qiáng)大的韌性和延伸性,通常保護(hù)車漆表面亮度,形成鏡面效果2年以上,遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過打蠟和封釉。
超環(huán)保使用水容環(huán)保材料,自身不氧化,更不會(huì)對(duì)車漆造成二次污染,而傳統(tǒng)的打蠟封釉項(xiàng)目對(duì)車漆容易造成二次污染。
chao強(qiáng)的撥水性。堅(jiān)硬的非有機(jī)(玻璃晶體)膜層表面氟素處理后具有chao強(qiáng)的撥水性金屬表面,金屬表面鍍膜沾附灰塵使水落在車體的瞬間收縮成水珠滑落有效地防止水垢的形成。
恒緣鈦金廠將竭誠(chéng)為您提供周到的表面處理加工服務(wù)。歡迎您致電圖片上方的聯(lián)系方式。
恒緣鈦金與您分享鍍膜材料
鍍膜材料一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。一種金屬表面真空和蒸發(fā)鍍膜裝置,包括主殼體、真空室和雙層隔熱板,所述主殼體的底部安裝有底座,所述主殼體的表面安裝有防護(hù)膠套,所述主殼體的頂部安裝有電源按鈕。恒緣鈦金與您分享PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類—PVD鍍膜目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。鍍膜指在基材上形成從數(shù)納米到數(shù)微米的材料層,材料可以是金屬材料、半導(dǎo)體材料、以及氧化物氟化物等化合物材料。鍍膜的工藝可以簡(jiǎn)略的分為化學(xué)工藝及物理
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恒緣鈦金與您分享鍍膜中常見的幾種離子源
離子源類型雖多,目的卻無(wú)非在線清洗,改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度,同時(shí)膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會(huì)改善。二、氟素類鍍膜產(chǎn)品成膜性好,耐腐蝕,耐候性,耐磨損的性能都非常優(yōu)越。若是鍍工具耐磨層,一般厚度較大而對(duì)膜厚均勻性要求不高,可采用離子電流較大能級(jí)也較高的離子源,如霍爾離子源或陽(yáng)極層離子源。
陽(yáng)極層離子源,與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形(長(zhǎng)方形或圓形)窄縫中施加強(qiáng)磁場(chǎng),在陽(yáng)極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽(yáng)極層離子源可以做得很大很長(zhǎng),特別適合鍍大工件,如建筑玻璃。陽(yáng)極層離子源離子電流也較大。普通攪拌手段的電鍍陰極電流密度變化值只有10A/dmz左右,而高速攪拌可達(dá)100A/dmz左右,效率整整提高了十倍啊。但其離子流較發(fā)散,且能級(jí)分布太寬。一般適用于大型工件,玻璃,磨損,裝飾工件。但應(yīng)用于髙級(jí)光學(xué)鍍膜并不太多。
考夫曼離子源是應(yīng)用較早的離子源。屬于柵格式離子源。首先由陰極在離子源內(nèi)腔產(chǎn)生等離子體,讓后由兩層或三層陽(yáng)極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來。我們知道問題所在,就可以明白,想要避免膜層有氣泡,或者膜層脫落掉色,在鋅合金真空鍍膜過程中,應(yīng)該注意前處理的清洗,,防止產(chǎn)品表面受污染,同時(shí)注意檢查前處理后的泥渣殘留現(xiàn)象,浸酸以及清洗。這種離子源產(chǎn)生的離子方向性強(qiáng),離子能量帶寬集中,可廣泛應(yīng)用于真空鍍膜中。缺點(diǎn)是陰極(往往是鎢絲)在反應(yīng)氣體中很快就燒掉了,另外就是離子流量有極限,對(duì)需要大離子流量的用戶可能不適和。
霍爾離子源是陽(yáng)極在一個(gè)強(qiáng)軸向磁場(chǎng)的協(xié)作下將工藝氣體等離子化。這個(gè)軸向磁場(chǎng)的強(qiáng)不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場(chǎng)的作用太強(qiáng),霍爾離子源離子束需要補(bǔ)充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲(陰極)。
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相對(duì)蒸騰鍍,磁控濺射鍍膜有如下的特點(diǎn):
1.膜厚可控性和重復(fù)性好
2.薄膜與基片的附著力強(qiáng)
3.能夠制備絕大多數(shù)材料的薄膜,包含合金,化合物等
4.膜層純度高,細(xì)密
5.堆積速率低,設(shè)備也更復(fù)雜