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UV光氧除味設(shè)備生產(chǎn)推薦

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發(fā)布時間:2020-07-16 06:54  








光氧除味設(shè)備想要達到理想的工作效率,在設(shè)計原理上不斷引進高新技術(shù),不斷的讓設(shè)備技術(shù)在進步,光氧化催化技術(shù)利用光激發(fā)氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結(jié)合。所用光主要為紫外光,包括uv-H2O2、uv-O2等工藝,可以用于處理污水中CHCl3、CCl4等難降解物質(zhì)。另外,在有紫外光的Fenton體系中,紫外光與鐵離子之間存在著協(xié)同效應(yīng),使H2O2分解產(chǎn)生自由基的速率大大加快,促近有機物的氧化去除。





光氧一體機

產(chǎn)品概述

本產(chǎn)品采用高能高臭氧UV紫外線光束、氧化反應(yīng)催化劑、高能離子發(fā)生器的工藝來降解惡臭氣體(有機廢氣),改變惡臭氣體如:氨、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫,硫化物H2S、VOC類,使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,通過高能紫外線光束照射、催化劑的氧化反應(yīng)、正氧離子的氧化反應(yīng),降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H2O等。




UV光氧除味設(shè)備生產(chǎn)產(chǎn)品性能

1.無需預(yù)處理:惡臭氣體無需進行特殊的預(yù)處理,如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30o-95o之間,濕度在40%-98%之間均可正常工作。

2.設(shè)備占地面積小,自重輕:適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件,設(shè)備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

3.材料制造:防火、防腐蝕性能高,性能穩(wěn)定,使用壽命長。


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