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發(fā)布時(shí)間:2020-08-04 02:15  






     人員管理

  一支穩(wěn)定熟練的員工隊(duì)伍是電鍍經(jīng)營能否取得成功的關(guān)鍵。這要求做到以下幾點(diǎn):

  1、制定崗位責(zé)任標(biāo)準(zhǔn),這是管理員工的依據(jù)。

  2、加強(qiáng)員工培訓(xùn),新入廠員工培訓(xùn)和技能·級(jí)培訓(xùn),培訓(xùn)的目地是所有員工能熟練掌握崗位操作技能,熟悉廠紀(jì)廠規(guī),明確崗位質(zhì)量要求,其要會(huì)看貨。 通過員工培訓(xùn)培養(yǎng)后備力量,以免因員工流動(dòng)造成生產(chǎn)質(zhì)量不穩(wěn)定。

  3、在保證工時(shí)產(chǎn)值指標(biāo)的前提下,制定獎(jiǎng)罰制度,盡量留住崗位能手,確保關(guān)鍵崗位員工流動(dòng)性不大。

  4、強(qiáng)化管理人員之間的溝通與協(xié)調(diào),使每個(gè)環(huán)節(jié)緊密相扣,讓車間是一個(gè)團(tuán)結(jié)拼搏的總體,而不至于出現(xiàn)各司其職,各自為政的局面。



鋁合金氧化與電鍍的區(qū)別

    我們這里說鋁合金的氧化是陽極氧化,陽極氧化和電鍍雖然都是需要通電的,但是兩者有本質(zhì)的區(qū)別。

   首先來看一下陽極氧化,并不是所有的金屬都適合陽極氧化。一般金屬合金比較事宜進(jìn)行陽極氧化處理,而鋁材是應(yīng)用的為廣泛的。陽極氧化是通過把被氧化的金屬(鋁材)作為陽極,通低壓直流電進(jìn)行電解氧化,使材料表面形成一層致密的氧化膜,這層氧化膜是自身金屬的氧化物。真空電鍍廠介紹影響電鍍質(zhì)量的因素真空電鍍廠介紹,影響電鍍質(zhì)量的因素很多﹐包括鍍液的各種成分以及各種電鍍工藝參數(shù)。

   電鍍就不一樣了,電鍍適用于各種金屬和非金屬的表面處理。只要經(jīng)過合理的表面處理,各種金屬及部分非金屬都可以進(jìn)行電鍍。即便它是一片薄薄的樹葉,只要經(jīng)過合理的處理,也是可以電鍍的。與陽極氧化不同的是,被電鍍的材料是作為陰極,鍍層金屬作為陽極進(jìn)行通電的,鍍層金屬以金屬離子的狀態(tài)存在電解液中。通過電荷效應(yīng),陽極的金屬離子向陰極移動(dòng),并沉積在陰極的被電鍍材料上。根據(jù)滾筒使用不同,將電鍍生產(chǎn)中常見的滾鍍方式劃分為臥式滾鍍、傾斜時(shí)滾鍍和振動(dòng)滾鍍?nèi)箢?。比較常見的鍍層金屬有金、銀、銅、鎳、鋅等。

   由此可見,陽極氧化與電鍍都屬于表面處理,都可以達(dá)到美觀,抗腐蝕的效果。兩者區(qū)別就在于電鍍是通過物理效應(yīng)在原本的材料表面添加另一種金屬保護(hù)層,而陽極氧化是將金屬的表面一層進(jìn)行電化學(xué)氧化。

   而鋁合金材料常用的表面處理方式還是陽極氧化,因其陽極氧化表面美觀度更好,耐腐蝕性更強(qiáng),也更易于打理。并且鋁合金材料可以氧化著色,以得到各種想要的顏色。



  一、真空電鍍加工電鍍工藝優(yōu)勢

     為了保證封裝工藝中裝片/鍵合性能,使芯片和金絲與引線框架形成良好的擴(kuò)散焊接,引線框架的裝片/鍵合區(qū)域(內(nèi)引線腳上和小島)一般要求壓印,然后在上面電鍍。通過精壓可以形成一個(gè)光滑致密的表面以獲得高質(zhì)量的鍍層,同時(shí)提供一個(gè)充足平坦的鍵合點(diǎn)區(qū)域。鍍層的質(zhì)量直接影響裝片和金絲的鍵合強(qiáng)度,從而終影響產(chǎn)品的成品率和可靠性。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來得好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢的多。

     二、在真空電鍍加工工作方式主要有兩種,真空蒸鍍與真空濺鍍。下面簡單介紹一下這兩種方式。

真空蒸鍍是將工件裝入電鍍機(jī)內(nèi),然后將室內(nèi)空氣抽走,達(dá)到一定的真空度后,將室內(nèi)的鎢絲通電加熱。當(dāng)達(dá)到一定的溫度后,鎢絲上所放置的金屬絲氣化,然后隨著室內(nèi)的工件的轉(zhuǎn)動(dòng)均勻的沉積在工件表面,形成金屬膜。一般常見的電鍍用金屬有鋁、鎳、銅等等。因此,我們必須要十分重視工藝中規(guī)定的各種技術(shù)參數(shù),只有這樣才能保證鍍出好的鍍層。但由于熔點(diǎn),工藝控制等方面的原因,鍍鋁成為的做法。

     真空濺鍍主要利用輝光防電將ya氣AR離子撞擊靶材表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來得好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢的多。新型的濺鍍?cè)O(shè)備幾乎都是用磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍ya氣離子化,造成靶與ya氣離子間的撞擊幾率增加,提高濺鍍速率。為改善這一缺陷環(huán)節(jié),可采取熱油除氫代替在同樣工藝條件下的烘箱中除氫工藝。



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