光學(xué)石英玻璃的生產(chǎn)工藝如下：

一、制作熔解爐：熔解爐有黏土爐及白金爐兩種。這些年，進(jìn)入稀有元素的光學(xué)玻璃都運(yùn)用小型白金爐，以保持質(zhì)量的安穩(wěn)。

二、放入光學(xué)玻璃原材料：熔解爐（尤其是黏土爐）通過長期的枯燥后，放入依照特殊配方以及通過選別的原材料于熔解爐中，準(zhǔn)備熔融。

三、加熱、熔解、拌和：加熱條件，視原料而定?？墒牵鞣N原料必須拌和均勻，以求均質(zhì)。

四、冷卻：長期予以“徐冷”。可是，時(shí)間的長短也因原料而異，這是能保證質(zhì)量的主要的過程。

五、劈爐、選別：劈開黏土爐，取出塊狀粗胚而且選別它。  

六、查看、測驗(yàn)、整型：逐項(xiàng)查看或測驗(yàn)其各項(xiàng)功能，保證石英玻璃的質(zhì)量。

七、堵截、倒角（修邊）：將塊狀粗胚依照用處及標(biāo)準(zhǔn)，予以堵截成小塊而且倒角。

八、押胚成型：將粗胚加熱軟化后，依照工程圖的各項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)，押胚成型。可是，要事前制作或準(zhǔn)備各種模具、工具及副料等。

九、燒鈍：退火鈍化，消除內(nèi)部應(yīng)力。

十、測驗(yàn)、查看：測驗(yàn)押胚的光學(xué)功能及外觀。光學(xué)石英玻璃該制品將變成下游工業(yè)（光學(xué)組件制作加工廠）的毛胚，持續(xù)加工研磨后，變成光學(xué)組件。

石英玻璃加工時(shí)需注意檢查哪些？

  1、石英玻璃加工選用氧氣、氫氣混合動(dòng)力，因而氫氣瓶與氧氣瓶需阻隔存放。氫氣瓶應(yīng)貯存于陰涼處，防止陽光直曬，禁止明火。

　　2、在更換氣瓶時(shí)需檢查氣壓表是不是作業(yè)正常，一起查看與閘閥銜接處是不是漏氣。

　　3、每季度需定時(shí)檢查通氣管道、氣閥、燈頭等設(shè)備零部件的安全狀況。

　　4、在噴頭焚燒前，有必要先分別翻開氫、氧氣控制閥，將管道中殘留的空氣排盡后方可焚燒（防止因氫氣管道中殘留的空氣，在焚燒時(shí)發(fā)生爆l破風(fēng)險(xiǎn)）。

　　5、操作者在完成作業(yè)或脫離作業(yè)室時(shí)，有必要平息火并封閉噴槍氣閥及鋼瓶氣閥。

　　6、堅(jiān)持消防通道和電源開關(guān)閘處通暢。

光學(xué)玻璃加工中磨邊膠的基本要求及表面性能處理：

（1）定心夾頭的幾何軸與機(jī)床主軸的重合精度應(yīng)該超過定心精度，一般為0.003～0.005㎜； 這個(gè)在紅外線光學(xué)玻璃使用很多。

（2）定心夾頭的端面應(yīng)嚴(yán)格垂直于夾頭的幾何軸；益唯特光學(xué)玻璃鏡片精密就很好的依靠了這一點(diǎn)。

（3）定心夾頭端面的兩個(gè)棱邊應(yīng)對(duì)幾何軸成同心圓，形成薄而等厚的圓周，表面經(jīng)過研磨與拋光，以免劃傷透鏡；

（4）定心夾頭的外徑應(yīng)比被定心磨邊后透鏡直徑小0.2～0.5㎜；存放數(shù)天或10多天時(shí)間,便于零件運(yùn)轉(zhuǎn)和下道工序加工。在拋光下盤以后,再作若干補(bǔ)充防護(hù)措施,更為可靠。

（5）根據(jù)定心夾頭接觸的表面形狀（凸、平、凹）選擇定心夾頭邊緣的傾斜方向（粘結(jié)凸面時(shí)修成向內(nèi)傾斜）。此外為了避免定心夾頭加熱而使透鏡受壓，夾頭要有透氣小孔。

光學(xué)玻璃的精密拋光的化學(xué)穩(wěn)定性

光學(xué)玻璃元件在制造和使用過程中，其拋光表面抵抗各種侵蝕性介質(zhì)作用的能力稱為光學(xué)玻璃的化學(xué)穩(wěn)定性。

1 抗潮濕大氣作用穩(wěn)定性RC（S）(表面法)

根據(jù)對(duì)潮濕大氣作用的穩(wěn)定性，分為三級(jí)：

1級(jí)—在溫度50℃，相對(duì)濕度80％的條件下，光學(xué)玻璃拋光表面形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間超過 20h；

2級(jí)—在相同試驗(yàn)條件下，形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間在5h～20h之間； 3級(jí)--在相同試驗(yàn)條件下，形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間不到5h。

光學(xué)玻璃

2抗酸作用穩(wěn)定性RA（S）(表面法)

根據(jù)對(duì)酸溶液作用的穩(wěn)定性，分為三級(jí)：

1級(jí)—在0.1N、溫度50℃醋l酸溶液作用下，光學(xué)玻璃拋光表面的破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間 超過5h；

2級(jí)—在相同試驗(yàn)條件下，破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間在1h～5h； 3級(jí)--在相同試驗(yàn)條件下，破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間不到1h。