電鍍的實(shí)施方式

在工業(yè)化生產(chǎn)中，電鍍的實(shí)施方式多種多樣，常見的有掛鍍、滾鍍、刷鍍和高速連續(xù)電鍍等。

與掛鍍相比，滾鍍的優(yōu)點(diǎn)是節(jié)省勞動(dòng)力，提高生產(chǎn)效率，設(shè)備維修費(fèi)用少且占地面積小，鍍件鍍層的均勻性好。常用的鎂合金電鍍添加劑有耐腐蝕鎂合金電鍍添加劑、深孔鎂合金電鍍添加劑等。

刷鍍時(shí)溶液的濃差極化很小，而專用電解液中金屬離子濃度較高，可使用較大電流密度，因此鍍層的沉積速度較快。

連續(xù)電鍍時(shí)金屬絲或帶在鍍槽中連續(xù)通過，電鍍時(shí)間較短，因此要求使用高電流密度、導(dǎo)電性好、沉積速度快、鍍液各成分變化不顯著和對(duì)雜質(zhì)不敏感等的鍍液。

多層裝飾電鍍后套鉻的注意事項(xiàng)：改變電鍍?nèi)芤旱哪承┕に噮?shù)，提高電鍍?nèi)芤旱母采w能力

在允許的光亮區(qū)內(nèi)，溫度不變，大限度地使用高電流密度，電鍍的光亮區(qū)溫度與電流密度是相匹配的。在溫度不變的情況下，這種電流的改變范圍是較小的。

在允許范圍內(nèi)提高溫度，使電流密度上升，覆蓋能力提高。提高溫度必須提高電流密度，只有這樣才會(huì)達(dá)到提高覆蓋能力的目的。

提高鉻酸含量，提高了溶液電導(dǎo)率，可使覆蓋能力提高，所以一般裝飾電鍍鉻酸含量在300～350g/L。

酸性鍍銅液的維護(hù)事項(xiàng)

應(yīng)避免有害雜質(zhì)進(jìn)入鍍槽內(nèi)。根、氯根和鉻酸根等陰離子，對(duì)鍍液性能會(huì)產(chǎn)生不良的影響。另外，鉛合金m極很容易被腐蝕而在表面生成導(dǎo)電能力很弱的黃色膜層(主要成分為鉻酸鉛)，影響陽極的導(dǎo)電能力。酸性光亮鍍銅液對(duì)氯離子是比較敏感的，當(dāng)缺少氯離子時(shí)，即使酸銅光亮劑含量在正常范圍內(nèi)也難以得到整平性良好的全光亮鍍層。氯離子質(zhì)量濃度為20～40mg/L時(shí)，鍍層光澤為理想，超過80mg/L時(shí)光亮將會(huì)下降。因此，在配制鍍液時(shí)應(yīng)事先了解自來水中氯離子的含量，若超過工藝規(guī)范，則應(yīng)采用蒸餾水或去離子水進(jìn)行配制，然后再補(bǔ)充適量的氯離子。為了盡量避免氯離子的帶入，在工件(特別是復(fù)雜工件)進(jìn)行鍍前活化時(shí)不要采用鹽酸，而用硫酸取而代之。根的帶入將使鍍液的分散能力更壞，鉻酸根的帶入將導(dǎo)致鍍層結(jié)合不牢和鍍層脫皮，因此應(yīng)特別重視，嚴(yán)防誤加。

電鍍光亮度不夠，還發(fā)灰要怎么處理

鍵液中鉻酸酐與琉酸的質(zhì)置濃度比偏髙

在標(biāo)準(zhǔn)溫度(45 50°C)下電鍍裝飾鉻時(shí)，即便鉻酸(即鉻酸酐的水溶液)的濃度在很大范圍內(nèi)浮動(dòng)，也能得到光亮鉻。為了提高電鍍產(chǎn)品的性能和美觀程度，在進(jìn)行電鍍的時(shí)候，經(jīng)常需要加入一些添加劑提高產(chǎn)品的光滑度和光澤。但是鉻酸酑的含量會(huì)影響鍍液的導(dǎo)電性，并終影響電鍍質(zhì)量。另外，鉻酸酐與硫酸的比值也會(huì)影響鍍層性能。如果兩者的比值偏低，勢(shì)必會(huì)加大膠體膜的溶解能力，使叨極極化減弱，鍍層發(fā)暗：偏高則可能會(huì)發(fā)生局部膠體膜溶解現(xiàn)象。膠體膜的溶解速率高于成膜速率時(shí)，鉻沉積受阻，所得鍍層結(jié)晶粗糙，表面發(fā)灰，缺乏金屬光澤。

處理措施：一般情況下，應(yīng)將鉻酸酐與硫酸的質(zhì)量濃度比控制在(80 100):1,理想值為100:1。因此將鍍液中鉻酸酐和硫酸的質(zhì)量濃度比調(diào)整到100:1，各自的質(zhì)量濃度為：鉻酸酐130 170g/L,硫酸0.4 1.0g/L。