蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)的原理及性能,你了解多少?

蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等片置于坩堝前方。通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。電氣設(shè)備包括測量真空和膜層厚度及控制臺等。因此，排氣系統(tǒng)既要求在較短的時(shí)間內(nèi)獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)，也要求確保在蒸氣鍍膜時(shí)迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。為了提高抽氣速率，可在機(jī)械泵和擴(kuò)散泵之間加機(jī)械增壓泵。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。蒸發(fā)式真空鍍膜機(jī)常用蒸發(fā)源是用來加熱膜材使之汽化蒸發(fā)的裝置。真空室是放置鍍件、進(jìn)行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼制作，有水冷卻裝置。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)系統(tǒng)包括蒸發(fā)源和加熱蒸發(fā)源的電氣設(shè)備。

五金首飾真空鍍膜機(jī)

集成了直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)技術(shù)，結(jié)合線性電離源和脈沖偏壓涂層薄的沉積顆粒。各種膜性能的改善，能大衣合金薄膜，復(fù)合膜，多層復(fù)合膜的金屬表面上以及非金屬。金首飾真空鍍膜機(jī)集成了直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)技術(shù)，結(jié)合線性電離源和脈沖偏壓涂層薄的沉積顆粒。各種膜性能的改善，能大衣合金薄膜，復(fù)合膜，多層復(fù)合膜的金屬表面上以及非金屬。經(jīng)過多年專門的研發(fā)我們的工程師，通過獨(dú)特的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，我們開發(fā)了一套計(jì)算機(jī)自動控制系統(tǒng)使涂膜附著力密度以及復(fù)雜的一致性好，解決手工操作的復(fù)雜性，膜的顏色不一致等問題。

齒輪傳動真空鍍膜機(jī)

齒輪傳動真空鍍膜機(jī)制備的硬質(zhì)涂層可降低滑動磨損（由混合摩擦引起）、刮傷（潤滑膜的位置或低周邊速度過載的位置）、點(diǎn)蝕（齒輪齒表面的抗壓強(qiáng)度太低的位置），甚至在要求嚴(yán)格的條件下（例如在運(yùn)動中），硬質(zhì)涂層的齒輪傳動元件不但仍能運(yùn)轉(zhuǎn)更可靠，而且其性能也更進(jìn)了一步。真空鍍室的真空密封和室內(nèi)運(yùn)動部件的設(shè)計(jì)和用材，充分考慮可承受高溫，配置多只園形電弧蒸發(fā)源，或配多個(gè)矩形平面電弧蒸發(fā)源，也可配多只空心陰極槍，同時(shí)配置耐沖擊的、具有優(yōu)異滅閃弧性能的偏壓電源，保證足夠等離子體密度和反應(yīng)活性，提高膜層致密性和結(jié)合力。工件可三維運(yùn)動，提高膜層均勻性。全自動控制提高工藝穩(wěn)定性。

pvd裝飾鍍膜有哪些優(yōu)點(diǎn)?

pvd裝飾鍍膜有哪些優(yōu)點(diǎn)？ PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù)的主要特點(diǎn)和優(yōu)勢—和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn)： A.膜層與工件表面的結(jié)合力強(qiáng)，更加持久和耐磨B.離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的工件0v R0S4C.膜層沉積速率快，生產(chǎn)D.可鍍膜層種類廣泛E.膜層性能穩(wěn)定、安全性高(獲得FDA認(rèn)證). 鍍膜設(shè)備鍍出的產(chǎn)品掉膜是怎么回事?一、產(chǎn)品表面潔凈度不夠，離子源清洗氣放大時(shí)間長點(diǎn)。二、清洗是否有加了清洗劑，或者更換了清洗劑，建議用純水先試一下。三、工藝參數(shù)是否有變動在膜厚和電流上可以做點(diǎn)調(diào)整。