中頻磁控 多弧離子濺射鍍膜機特點

中頻磁控 多弧離子濺射鍍膜機具有：結構合理、膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作周期短、生產、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應用于切削刀具如齒輪滾刀，插刀，銑刀，鉆頭等表面沉積超硬涂層，也可用于鐘表，眼鏡架，手機殼、鎖具，潔具等各類小五金表面沉積裝飾涂層，本設備可實現(xiàn)一機多用沉積多種膜層，膜層細膩，有純鈦（Ti）氮化鈦（TiN）氧化鈦（TiO）純鋯（Zr）氮化鋯（ZrN）碳化鈦（TiC）純鉻（Cr）氮化鉻（CrN）碳氮化鈦（TiCN）氮化鋁鈦（TiAlN），PVD鍍膜膜層目前常見的顏色主要有：深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色,藍色等。亮度好，飽滿度好

至成真空科技可以根據用戶要求設計各種規(guī)格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統(tǒng)也可根據用戶要求進行設計配置。

真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點是怎樣的?

真空鍍膜機離子鍍技術市場使用占比率非常高，鍍餐具，鍍家居，鍍飾品等都離不開離子鍍膜技術，離子鍍膜技術不僅僅在國內受追捧，國外也是一樣受喜愛。那么，真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點是怎樣的？下面至成小編為大家詳細介紹一下：

離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發(fā)展起來的沉積技術。在真空條件下，采用適當?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質離子的轟擊下，蒸發(fā)物質或其反應產物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優(yōu)點。

光學真空鍍膜機薄膜根據其用途分類、特性與應用可分為哪些膜

光學真空鍍膜機薄膜根據其用途分類、特性與應用可分為：反射膜、增透膜/減反射膜、濾光片、偏光片/偏光膜、補償膜/相位差板、配向膜、擴散膜/片、增亮膜/棱鏡片/聚光片、遮光膜/黑白膠等。相關衍生的種類有光學級保護膜、窗膜等。

光學真空鍍膜機光學薄膜的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內是連續(xù)的;可以是透明介質，也可以是吸收介質;可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應用的薄膜要比理想薄膜復雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學性質和物理性質偏離大塊材料，起表面和界面是粗糙的，從而導致光束的漫反射;膜層之間的相互滲透形成擴散界面;由于膜層的生長、結構、應力等原因，形成了薄膜的各種向異性;膜層具有復雜的時間效應。

光學鍍膜技術在過去幾十年實現(xiàn)了飛快的發(fā)展，從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助沉積技術發(fā)展到離子束濺射和磁控濺射技術。近年來在這些沉積技術和裝備領域的主要技術有以下三點：

一、漸變折射率結構薄膜技術與裝備：

漸變折射率結構薄膜技術與裝備:已經有大量研究工作已經證實Rugate無界面型薄膜結構和準Rugate多種折射率薄膜結構通過加強調制折射率在薄膜厚度方向上分布，能設計出非常復雜的光譜性能，(部分)消除

了薄膜界面特征，(部分)消除界面效應，如電磁波在界面上比薄膜內部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力學穩(wěn)定性。

二、磁控濺射光學鍍膜系統(tǒng)

以LeyboldHelios和ShincronRAS為代表，磁控濺射技術及裝備在精密光學領域和消費光電子薄膜領域占據越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡單，粒子能量高，獲得的薄膜結構致密穩(wěn)定。

三、間歇式直接光控：

間歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系統(tǒng)為代表，光學鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號采集系統(tǒng)，對鍍膜過程產品片實現(xiàn)直接監(jiān)控。相對于間接光控和晶控系統(tǒng)，間歇式直接光控系統(tǒng)有利于降低實際產品上的薄膜厚度分布誤差，可以進一步提高產品良率并減少了工藝調試時間。