真空鍍膜機濺射工藝

真空鍍膜機濺射工藝主要用于真空鍍膜機濺射刻蝕和薄膜沉積兩個方面。濺射刻蝕時，被刻蝕的材料置于靶極位置，受Ar離子的轟擊進行刻蝕。刻蝕速率與靶極材料的濺射產額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關。真空鍍膜機濺射刻蝕時，應盡可能從真空鍍膜機濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應氣體，使之與濺出的靶極原子反應生成揮發(fā)性氣體，通過真空系統(tǒng)從濺射室中排出。沉積薄膜時，濺射源置于靶極，受Ar離子轟擊后發(fā)生濺射。如果靶材是單質的，則在襯底上生成靶極物質的單質薄膜；若在濺射室內有意識地引入反應氣體，使之與濺出的靶材原子發(fā)生化學反應而淀積于襯底，便可形成靶極材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進行濺射而得。在濺射中，濺出的原子是與具有數(shù)千電子伏的高能離子交換能量后飛濺出來的，其能量較高，往往比蒸發(fā)原子高出1～2個數(shù)量級，因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸發(fā)為佳。

若在濺射時襯底加適當?shù)钠珘?，可以兼顧襯底的清潔處理，這對生成薄膜的臺階覆蓋也有好處。另外，用真空鍍膜機濺射法可以制備不能用蒸發(fā)工藝制備的高熔點、低蒸氣壓物質膜，便于制備化合物或合金的薄膜。濺射主要有離子束濺射和等離子體濺射兩種方法。離子束濺射裝置中，由離子槍提供一定能量的定向離子束轟擊靶極產生濺射。離子槍可以兼作襯底的清潔處理和對靶極的濺射。為避免在絕緣的固體表面產生電荷堆積，可采用荷能中性束的濺射。中性束是荷能正離子在脫離離子槍之前由電子中和所致。離子束濺射廣泛應用于表面分析儀器中，對樣品進行清潔處理或剝層處理。由于束斑大小有限，用于大面積襯底的快速薄膜淀積尚有困難。等離子體真空鍍膜機濺射也稱輝光放電濺射。產生濺射所需的正離子來源于輝光放電中的等離子區(qū)。靶極表面必須是一個高的負電位，正離子被此電場加速后獲得動能轟擊靶極產生濺射，同時不可避免地發(fā)生電子對襯底的轟擊。

電子束鋼帶真空鍍膜機有許多長處有哪些

1、可選擇的鍍膜資料多而不受資料熔點約束。因而，除了熱鍍鋅中常見的鍍鋅、鋁、錫以外，簡直一切的金屬資料都能夠蒸鍍，還可鍍品種許多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復合膜。這為開展新式帶鋼資料供給了很大的自由度。

2、鍍膜資料利用率高，環(huán)境污染小。真空鍍膜屬干式鍍膜，沒有有害液體、氣體的發(fā)生。

3、帶鋼鍍膜質量好，能取得均勻、滑潤且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。鋼帶鍍膜前可經電子束預熱外表活化，鍍膜純度高，沒有中心硬脆的合金層，能夠一次沖壓成型，甚至能夠卷成直經很小的管而不掉落鍍層。

4、技能靈敏，改動品種方便，能夠依據(jù)商品請求靈敏地完成在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層，能夠一同鍍兩種資料到達鍍混合膜。鍍膜厚度易于操控，并且能夠鍍制超薄膜。

真空鍍膜機使用前的準備工作

在使用真空鍍膜機前，必須詳閱使用說明書，熟悉整機結構原理，各部件的作用和操作方法。

1、確認水、電、氣均已安裝無誤后，先試運行滑閥泵、羅茨泵，其轉動方向要與各泵規(guī)定的方向一致。

2、檢查設備的各個動力傳動裝置運轉是否正常。

3、檢查卷繞車的開動情況，檢查卷繞車與真空罐對接的密封是否可靠，檢查裝于導軌上的各個行程開關是否工作正常，檢查履帶的安放及定位情況是否完好。

4、按照從低真空到高真空的次序，逐級調試真空系統(tǒng)，檢查各個環(huán)節(jié)的密封是否可靠，各個閥門開閉是否靈活，霍爾開關位置是否正確，各真空泵均應運轉平穩(wěn)、無異常振動、無異常噪音。

鍍膜理論

鍍膜控制穿過光學干涉機制的反射光和透射光。當兩個光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時，波峰值的空間位置也匹配并將結合創(chuàng)建較大的總振幅。當光束為反相位（180°位移）時，其疊加會導致在所有峰值的消減效應，導致結合的振幅降低。這些效應被分別稱為建設性和破壞性的干涉。

光的波長和入射角通常是的，折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會影響鍍膜內光線的路徑長度，并將在光透射時改變相位值。這種效應可簡單地通過單層增透膜例子說明。當光傳輸穿過系統(tǒng)時，在鍍膜任一側的兩個接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了盡量減少反射，我們希望它們在個接口重組時，這兩個反射部分具有180°的相位移。這個相位差異直接對應于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學厚度設置為λ/4獲得良好實現(xiàn)。