但是，鎳是一種you秀的軟磁材料，對基體磁性會形成屏蔽，當(dāng)磁體體積小或很薄的時候屏蔽尤為明顯。單層鎳的侵蝕風(fēng)險比較高，多層鍍或復(fù)合鍍能很好地解決這個問題。銅的化學(xué)性質(zhì)活潑，容易生銹，所以一般不單獨(dú)使用，而是作為底鍍層或中間層來提高基底與表面鍍層的結(jié)合力。點(diǎn)擊了解更多電鍍相關(guān)知識（不同鍍層的使用場景、耐腐性等）3.化學(xué)鍍化學(xué)鍍與電鍍一樣，也是通過氧化還原反應(yīng)，鍍液中的金屬離子還原成原子附著在磁體表層，不同的是沒有電流來吸引離子、增強(qiáng)原子附著力，所以需要有還原劑在鍍液中存，基體表面還需要催化。無需電源是化學(xué)鍍的zui大優(yōu)點(diǎn)，它可以在形狀復(fù)雜的磁體表面形成厚度均勻的鍍層，鍍層硬度高、空隙小、化學(xué)穩(wěn)定性高。

電弧離子鍍陰極弧技術(shù)是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài)，從而完成薄膜材料的沉積，該技術(shù)材料的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異。過濾陰極弧過濾陰極電弧(FCA)配有g(shù)ao效的電磁過濾系統(tǒng)，可將弧源產(chǎn)生的等離子體中的宏觀大顆粒過濾掉，因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與機(jī)體的結(jié)合力很強(qiáng)。離子束離子束加工是在真空條件下，先由電子槍產(chǎn)生電子束，再引入已抽成真空且充滿惰性氣體之電離室中，使低壓惰性氣體離子化。由負(fù)極引出陽離子又經(jīng)加速、集束等步驟，獲得具有一定速度的離子投射到材料表面，產(chǎn)生濺射效應(yīng)和注入效應(yīng)。

PVD鍍膜膜層的特點(diǎn)：采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類：PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。

PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍（水電鍍）的異同：PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。PVD鍍膜技術(shù)目前主要應(yīng)用的行業(yè)：PVD鍍膜技術(shù)的應(yīng)用主要分為兩大類：裝飾鍍膜和工具鍍膜。