建筑玻璃有透光和隔熱兩個基本功能。普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量，這對采光和吸收太陽光線的能量十分有利。而對于空間紅外輻射，普通玻璃雖能阻止室內的熱量直接透過室外，但熱量被玻璃吸收后的二次散熱也會造成很大的損失。隨著經濟的發(fā)展，普通玻璃已越來越不能滿足人們的要求。而陽光控制膜和低輻射膜正好能彌補了普通玻璃在這一方面的不足。

       生活中我們會看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等，這些就是經過派瑞林鍍膜技術加工后的涂層工具。金黃色的是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN 涂層。TiN是代應用廣泛的硬質層材料。黑色的是在切削工具上涂了TiC、CrN涂層。鈷銅色的是在刀具上鍍涂了TiALN涂層。

        不導電（NCVM）鍍膜設備NCVM又稱不連續(xù)鍍膜技術或不導電電鍍技術，是一種起緣普通真空電鍍的高新技術。真空電鍍，簡稱 vm， 是vacuum metalization的縮寫。它是指金屬材料在真空條件下，運用化學和物理等特定手段進行有機轉換，使金屬轉換成粒子，沉積或吸附在塑膠材料的表面，形成膜，也就是我們所謂的鍍膜。

        進口不導電（NCVM）鍍膜設備應用于塑料電子產品:手機外殼、手機按鍵、電腦、數碼、電子通信等的表面鍍制不導電膜（NCVM）。大功率蒸發(fā)系統，可控硅控制，重復性、穩(wěn)定性高,獨有鍍透電極設計，配置石英晶振，可控制任何膜層厚度,擁有的工件架技術，轉速平穩(wěn)可調，產量大且良品率高。

       與化學吸附自限制過程不同，順次反應自限制原子層沉積過程是通過活性前驅體物質與活性基體材料表面化學反應來驅動的。這樣得到的沉積薄膜是由于前驅體與基體材料間的化學反應形成的。圖a和b分別給出了這兩種自限制反應過程的示意圖。由圖可知，化學吸附自限制過程的是由吸附前驅體1（ML2）與前驅體2（AN2）直接反應生成MA原子層（薄膜構成），主要反應可以以方程式⑴表示。對于順次反應自限制過程首先是活化劑（AN）活化基體材料表面；然后注入的前驅體1（ML2）在活化的基體材料表面反應形成吸附中間體（AML），這可以用反應方程式⑵表示。反應⑵隨著活化劑AN的反應消耗而自動終止，具有自限制性。當沉積反應前驅體2（AN2）注入反應器后，就會與上述的吸附中間體反應并生成沉積原子層。

       由于PVD涂層能提供更好的邊緣保持力，防止氧化和腐蝕，在切削過程中保持清晰，不會與骨骼、組織或體液發(fā)生反應，故而，越來越多都用于，例如鋒利的手術器械、針頭、鉆頭、、各種裝置組件以及應用的“磨損”部件。PVD功能性硬涂層(如DLC，TIN)已廣泛應用在不銹鋼零部件上，作用是可減少摩損和延長零部件壽命，但因為涂層本身有缺陷和，所以使用在一些  耐腐蝕要求高的環(huán)境下，效果不佳。PVD功能膜配合納米透明膜是目前更理想的解決方案：PVD涂層提供耐磨性，納米透明膜提供耐腐蝕性。

       PVD工藝一般只是直線沉積，對形狀復雜，縱橫比高或有深孔的工件是難以得到均勻的厚度。納米透明膜可解決這問題，無論形狀多復雜，每個位置的膜厚都是一致的，沒有大偏差。