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真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn):利用磁場(chǎng)與電子交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊亞氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場(chǎng)特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率,可采用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)。但旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),同時(shí)濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對(duì)于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備,多用磁場(chǎng)靜止靶源。
1、東莞真空電鍍廠的真空鍍膜膜對(duì)人的危害很小的。
2、電磁輻射很小。
3、真空泵排氣要直接到室外。
4、鍍膜結(jié)束后,打開真空室時(shí),可能會(huì)有大量灰塵,注意別吸到呼吸道中。
5、不要長(zhǎng)時(shí)間觀察等離子體束,可能對(duì)我們的眼睛有傷害。
6、如果需要加熱,注意別燙到。
7、注意工藝氣體不能泄露。
應(yīng)該是真空濺鍍,不是電鍍。這種鍍膜方式危害很小,對(duì)人體危害較大的就是打開真空室時(shí)產(chǎn)生的灰塵。