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1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
2、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。
對于真空鍍膜加工單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因
主要是由于基片凹凸嚴(yán)重,與傘片曲率差異較大,基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大,形成的膜厚差異大。?
另外鏡片被鏡圈()邊緣部遮擋、鏡圈()臟在蒸鍍時(shí)污染鏡片等等也會(huì)造成膜色差異問題。?
改善思路:改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。
改善對策:?
㈠?條件許可,用行星夾具;?
㈡?選用傘片平坦(R大)的機(jī)臺;?
㈢?根據(jù)傘片孔位分布,基片形狀,制作專門的鋸齒形修正板。?
㈣?如果有可能,把蒸發(fā)源往真空室中間移動(dòng),也可改善單片的膜色均勻性。?㈤?改善鏡圈(),防止遮擋。?
㈥?注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對邊緣鏡片的部分遮擋?㈦?清潔鏡圈()?㈧?改善膜料蒸發(fā)狀況。
真空鍍膜廠家 真空鍍膜加工鍍鋁怎樣鍍厚
由于真空鍍鋁薄膜上的鍍鋁層非常薄,因此不能用常規(guī)的測厚儀器檢測其厚度,常用的檢測方法如下:
①電阻法。電阻法是利用歐姆定律來對鍍鋁層的厚度進(jìn)行測量,根據(jù)歐姆定律: R=pXL/S 單位面積鍍鋁薄膜的電阻值越小,其鍍鋁層的厚度越厚,反之則越薄。
電阻法檢測鍍鋁層的厚度用表面電阻來表示,單位是Q,數(shù)值越大說明鍍鋁層厚度越薄,一般真空鍍鋁薄膜的表面電阻值為1.0~2.5Q。