pvd真空鍍膜技術(shù)在塑料制品上的運(yùn)用普遍，塑料具備易成形，低成本，品質(zhì)輕，不浸蝕等特性，塑料制品運(yùn)用普遍，但因其缺陷牽制了擴(kuò)張運(yùn)用。根據(jù)真空鍍膜技術(shù)的運(yùn)用，使塑料表面金屬化，將有機(jī)材料和無(wú)機(jī)材料融合起來(lái)，進(jìn)一步提高了它的物理學(xué)、有機(jī)化學(xué)特性。

   針對(duì)PVD真空鍍膜，不一樣的產(chǎn)品應(yīng)當(dāng)挑選適合鍍膜的加工工藝，磁控濺射鍍（關(guān)鍵金屬材料產(chǎn)品），揮發(fā)鍍（關(guān)鍵塑料產(chǎn)品），電子光學(xué)等離子噴涂（關(guān)鍵璃玻產(chǎn)品），顏色一樣有多種多樣挑選。

改善思路：充分采用修正板的功能。改善對(duì)策：加強(qiáng)傘片管理，特別是擺放時(shí)的管理，防止因擺放不當(dāng)而變形。改善膜料狀況，特別是電子槍蒸鍍升華、半升華材料時(shí)，不能把膜料打塌，挖坑。能夠自動(dòng)預(yù)熔的膜料，盡量自動(dòng)預(yù)熔，減少人為因素影響。修正板對(duì)物理膜厚的修正很有效，但對(duì)折射率的修正是力不從心的，所以完全靠修正板解決分光均勻性，是很困難的。如果一個(gè)修正板要對(duì)應(yīng)二把電子槍（蒸發(fā)源）、以及多種膜料，就會(huì)有較大的困難。

真空鍍膜所采用的辦法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流堆積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相堆積法。假定真空泵鍍層的目地是更改質(zhì)料表層的物理學(xué)和工藝性能，該技術(shù)性是真空泵金屬表層解決技術(shù)性的重要構(gòu)成部分?，F(xiàn)就其幾個(gè)主要使用方面做一簡(jiǎn)略介紹。在電子光學(xué)層面,用不一樣化學(xué)物質(zhì)層或?qū)渝儗拥墓鈱W(xué)鏡片或方解石表層,可變成高反射或許非反射膜(即反反射膜)或全部需求的反射或透射原材料占比,或能用來(lái)消化吸收一些光波長(zhǎng),并傳送另一光波長(zhǎng)的過(guò)濾器。

PVD鍍膜加工過(guò)程的均勻性分析：薄膜均勻性的概念：厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。