什么叫酸性蝕刻？

酸性蝕刻也叫氯化銅酸性蝕刻系統(tǒng)，通常使用于單面板蝕刻，多層板的內(nèi)層蝕刻或Tenting流程的外層蝕刻上，因這些制程都用干膜或液態(tài)感光油墨作為蝕刻阻劑，而這幾種感光材料相對(duì)而言均為耐酸不耐堿性的特性，故選用酸性蝕刻。

酸性蝕刻的種類：1.H2O2/HCI系列。2.NaCIO3/HCI系列。

酸性蝕刻制作流程：1、單面板：銅面前處理→印刷線路烘烤→固化酸性蝕刻→去膜2、內(nèi)層和外層（Tenting流程）：銅面前處理→壓膜→爆光→顯影→酸性蝕刻→去膜。

304蝕刻不銹鋼帶的介紹方法

304蝕刻不銹鋼帶日本于2003年開端研制的面向市場(chǎng)的200系列不銹鋼，當(dāng)前的首要出產(chǎn)廠家為NTK，其產(chǎn)物按含鎳量的分歧分為NTK-D10，NTK-D9和NTK-D7等商標(biāo)。NTK-D7是一種含鎳量比304低、含錳量比304高并含銅的奧氏體不銹鋼。b、NaOH濃度對(duì)蝕刻速度影響NaOH濃度太高將使成本投入增大，零件帶出量增大，不利于進(jìn)行低成本的加工。因?yàn)殄i的很多參加，鎳含量降低到2%~4%，然則，因?yàn)殂t含量為16%~18%，能包管不銹鋼應(yīng)有的耐蝕性，具有和304根本一樣的機(jī)械功能和耐侵蝕性。NTK-D7的大問(wèn)題是廢鋼治理。因?yàn)镹TK-D7鋼沒有磁性，在廢鋼收受接管時(shí)很難與304分隔。因而，早年期的運(yùn)用到廢鋼的分類必需樹立1套科學(xué)的系統(tǒng)治理系統(tǒng)，以處理高錳、高磷、含銅廢鋼的再生問(wèn)題。

NaOH濃度對(duì)蝕刻速度影響

NaOH濃度對(duì)蝕刻速度影響：在蝕刻溫度不變的情況下，增加NaOH濃度，蝕刻速度加快。目前，人們已經(jīng)研究出良多公式來(lái)表述奧氏體形成元素的相對(duì)重要性，最聞名的是下面的公式：奧氏體形成能力=Ni% 30C% 30N% 0。但在實(shí)際生產(chǎn)中也不能無(wú)限制地增加NaOH濃度，原因是：a、NaOH濃度對(duì)蝕刻速度影響太高的NaOH濃度稠度太大，影響反應(yīng)的正常進(jìn)行，同時(shí)也增加了對(duì)抗蝕層的要求；b、NaOH濃度對(duì)蝕刻速度影響NaOH濃度太高將使成本投入增大，零件帶出量增大，不利于進(jìn)行低成本的加工；c、過(guò)快的蝕刻速度回使鋁合金表面粗糙度增大。NaOH濃度一定以80g/L-120g/L為宜，只有在特別需要情況下才會(huì)使用更高濃度的NaOH蝕刻液。

興之揚(yáng)腐蝕不銹鋼網(wǎng)片小編給大家介紹什么是濕式蝕刻技術(shù)：

早期的蝕刻技術(shù)是利用特定的溶液與薄膜間所進(jìn)行的化學(xué)反應(yīng)來(lái)除薄膜未被光阻覆蓋的部分，而達(dá)到蝕刻的目的，這種蝕刻方式也就是所謂的濕式蝕刻。酸性蝕刻也叫氯化銅酸性蝕刻系統(tǒng)，通常使用于單面板蝕刻，多層板的內(nèi)層蝕刻或Tenting流程的外層蝕刻上，因這些制程都用干膜或液態(tài)感光油墨作為蝕刻阻劑，而這幾種感光材料相對(duì)而言均為耐酸不耐堿性的特性，故選用酸性蝕刻。因?yàn)闈袷轿g刻是利用化學(xué)反應(yīng)來(lái)進(jìn)行薄膜的去除，而化學(xué)反應(yīng)本身不具方向性，因此濕式蝕刻過(guò)程為等向性，一般而言此方式不足以定義3微米以下的線寬，但對(duì)于3微米以上的線寬定義濕式蝕刻仍然為一可選擇采用的技術(shù)。

濕式蝕刻之所以在微電子制作過(guò)程中被廣泛的采用乃由于其具有低成本、高可靠性、高產(chǎn)能及優(yōu)越的蝕刻選擇比等優(yōu)點(diǎn)。成型加工：在卷板、折彎過(guò)程中，應(yīng)采取有效措施避免造成不銹鋼件表面劃傷和折痕。但相對(duì)于干式蝕刻，除了無(wú)法定義較細(xì)的線寬外，濕式蝕刻仍有以下的缺點(diǎn)：1)需花費(fèi)較高成本的反應(yīng)溶液及去離子水；2)化學(xué)藥品處理時(shí)人員所遭遇的安全問(wèn)題；3)光阻附著性問(wèn)題；4)氣泡形成及化學(xué)蝕刻液無(wú)法完全與晶圓表面接觸所造成的不完全及不均勻的蝕刻。