我國專利申請文件上應該增加有關發(fā)明人地址的內容。這樣做的好處有三：

??(1)體現(xiàn)對發(fā)明人的尊重;

??(2)其二，與國際慣例接軌;

??(3)便于重要的專利指標研究。

??專利發(fā)明人對自己發(fā)明的專利享有的權利

??專利發(fā)明人對其創(chuàng)造發(fā)明的專利享有專利權。所謂專利權，是指專利主管機關依照《專利法》的規(guī)定授予專利所有人或持有人或者他們的繼受人在一定期限內依法享有對該專利制造、使用或者銷售的專有權和專用權。其權利內容主要包括：

??(1)對發(fā)明創(chuàng)造成果享有制造、使用和銷售的實施權;

??(2)放棄專利權的權利;

??(3)許可他人使用專利發(fā)明的權利;

??(4)轉讓專利發(fā)明所有權的權利;

??(5)使用專利標記的權利;

??(6)請求法i院保護自己專利權不受非i法侵害的權利等。

疊加式侵權

　　指在他人已經(jīng)侵犯外觀設計專利權的產品上添加新的圖案、形狀或色彩等之后，通過整體觀察和綜合判斷，仍然侵犯同一外觀設計專利權的情形。

??疊加式侵權特征：

??他人制造的產品已經(jīng)侵犯了別人的外觀設計專利權;

??第三人在該侵權產品上添加新的圖案、形狀或者色彩等，形成新的產品外觀;

??該新產品仍然侵犯了同一外觀設計專利權。

??疊加式侵權與相關概念的區(qū)別

??疊加式侵權與直接侵權的相同之處在于兩者均侵犯了外觀設計專利權。但直接侵權是制造者制造的產品直接侵犯了 外觀設計專利權，而疊加式侵權是在他人已經(jīng)侵犯外觀設計專利權的產品上，添加新的圖案、形狀或色彩，并與原有的圖案、形狀、色彩等結合在一起，形成新的產 品外觀。因此，從侵權行為分析，疊加式侵權至少包括了兩個直接侵權行為，其實施侵權行為的民事主體至少是兩個以上。

??疊加式侵權與間接侵權是 兩種不同的侵權行為，間接侵權是指行為人自己沒有直接侵犯專利權，卻誘導、慫恿、唆使他人侵犯專利權，促進或促成了直接侵權行為的發(fā)生，從而在客觀上損害 了專利權人的利益。因此，間接侵權并沒有直接侵犯外觀設計專利權，而疊加式侵權卻直接侵犯了外觀設計專利權。

??疊加式侵權與重復侵權亦不相 同。重復侵權是指行為人在被行政機關認定其行為構成侵權后或者在法i院判決構成侵權后，仍然實施同一侵權行為。因此，重復侵權的實施主體只有一個，而且其前 后實施的侵權行為是相同的。但疊加式侵權的實施主體至少兩個以上，而且他們所實施的侵權行為是不相同的。

外觀設計專利

　　外觀設計專利，是指對產品的形狀、圖案、色彩或者其結合所做出的富有美感并適于工業(yè)上應用的新設計。外觀設計是指工業(yè)品的外觀設計，也就是工業(yè)品的式樣。它與發(fā)明或實用新型完全不同，即外觀設計不是技術方案。我國《專利法實施細則》第二條中規(guī)定：“外觀設計，是指對產品的形狀、圖案或者其結合以及色彩與形狀、圖案的結合所做出的富有美感并適于工業(yè)應用的新設計。

??外觀設計專利的要求

??是指形狀、圖案、色彩或者其結合的設計;

??必須是對產品的外表所作的設計;

??必須富有美感;

??必須是適于工業(yè)上的應用。

??外觀設計專利的保護范圍

??“以表示在圖片或者照片中的該外觀設計專利產品為準”。這一規(guī)定表明，外觀設計專利權的保護范圍，以體現(xiàn)該產品外觀設計的圖片或者照片為基本依據(jù)。需要 說明的是，外觀設計專利權所保護的“表示在圖片或者照片中的該外觀設計專利產品”的范圍，應當是同類產品的范圍;不是同類產品，即使外觀設計相同，也不能 認為是侵犯了專利權。

專利規(guī)避最初的目的是從法律的角度來繞開某項專利的保護范圍以避免專利權人進行侵權訴訟，專利規(guī)避是企業(yè)進行市場競爭的合法行為pJ。因此首先對專利規(guī)避設計的實施方法做出回應的多源于法律學者，并隨著專利糾紛案件的不斷積累，總結與歸納出了相應的組件規(guī)避原則，主要是從刪除、替換、更改以及語義描述的變化等方面進行專利規(guī)避。實際應用中專利規(guī)避設計可遵循的三點原則：

??減少組件數(shù)量以滿足全i面覆蓋原則;

??使用替代的方法使被告主體不同于權利要求中指出的技術以防止字面侵權;

??從方法/功能/結果上對構成要件進行實質性改變，以避免侵犯等同原則。

??專利規(guī)避設計原則是從侵權判斷的角度進行分析，根據(jù)權利要求書分析專利的必要技術特征，對其進行刪減和替代， 以減少侵權的可能性。專利規(guī)避設計原則是宏觀層面上的指導方針，對設計人員來說，需要具體可以實施的過程來詳細指導如何在現(xiàn)有專利技術基礎上進行重組和替代，并且開發(fā)出新的技術方案繞開現(xiàn)有專利的保護范圍。功能裁剪作為有效的分析工具能夠指導設計人員進行技術分析，并結合專利規(guī)避設計原則選擇合理的技術進行刪除或替代，從根本上突破現(xiàn)有專利的技術壟斷。