相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。要說凈化工程在發(fā)展的前景方面，形勢還是非常好的，市場需求更是一片大好。因為我們國家的制藥、電子信息等行業(yè)都在迅速發(fā)展，所以對凈化工程行業(yè)的發(fā)展起到了帶動的作用。在這里需要提醒大家的是自從我們國家的方面的改革條文GMP-2010發(fā)布之后，既推動了生物和食品化工行業(yè)的發(fā)展，也間接的推動了凈化工程行業(yè)的發(fā)展。而且相關(guān)方面的政策支持也讓凈化工程行業(yè)的發(fā)展機遇推到了。

壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。100級：是常用的凈化工程，除了對空氣中的塵埃數(shù)有要求，對空氣中細菌的濃度也有明確要求。一般用于行業(yè)進行無菌制造，例如制造臨床用于植入體內(nèi)的物品，藥品生產(chǎn)。醫(yī)學科學實驗也在此環(huán)境中，包括實驗動物飼養(yǎng)環(huán)境。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。

設(shè)計凈化系統(tǒng)組織的原則是相鄰二級過濾器的效率不能太接近，也不能相差太大。一般采用初效、中效、亞(或)三級過濾器。也可分四級，增加一級過濾器。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%?，F(xiàn)在我們國家的經(jīng)濟科技在發(fā)展，同時帶動了社會各行各業(yè)在告訴發(fā)展中。以凈化工程這個行業(yè)為例，在目前呈現(xiàn)一片喜人的發(fā)展態(tài)勢。

凈化工程在設(shè)計時，無論是新建還是重新改造的凈化車間，都一定依照國家相關(guān)標準、規(guī)范進行。凈化工程的一般施工程序：粉塵作業(yè)，無塵作業(yè)后，不允許交叉作業(yè)。 否則會影響項目的質(zhì)量。 也就是說，在完成所有粉塵產(chǎn)生操作之后，可以進行無塵操作。壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。