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滲碳爐型號免費咨詢「在線咨詢」

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發(fā)布時間:2020-07-22 14:01  







真空滲碳淬火具有不產(chǎn)生晶界氧化

真空滲碳淬火 真空滲碳淬火具有不產(chǎn)生晶界氧化,表面力學性能高,CO2排放較少。但存在碳勢控制難、設備投資比氣體滲碳高、多種材料的零部件難以同時處理而且質(zhì)量控制難等問題。 發(fā)展趨勢是:低價的真空滲碳爐開發(fā)會加速,同時研發(fā)適用于真空滲碳的鋼種也是重要的課題。并且開發(fā)具有低成本、氣氛自動化管理、熱處理過程—質(zhì)量的一元化管理、異常時自律診斷等功能的真空滲碳設備將是主要發(fā)展方向。 可控氣氛熱處理爐有哪些爐型? 可控氣氛熱處理爐包括帶鋼連續(xù)式光亮退火爐、氣墊式鋁材生產(chǎn)線退火爐、多用爐聯(lián)合機組、連續(xù)滲碳爐、輥底式爐、網(wǎng)帶式爐、罩式爐等。 熱處理爐有何重要作用?為了減少散熱損失在輕質(zhì)抗?jié)B磚與鋼甲之間可用一層25*40mm厚的耐火纖維加以絕熱。 熱處理爐及其輔助設備是完成熱處理工序的必要重要裝置,這類設備對熱處理效果和產(chǎn)品質(zhì)量起著決定性的作用


井式電爐間歇使用,石墨棒功率的調(diào)整方式

井式電爐間歇使用,隨著窯爐溫度的升降變化,會導致棒表面的保護膜,保護作用減弱,加快棒的電阻值變大。石墨棒功率的調(diào)整方式,建議通過調(diào)整電壓的方式來調(diào)整功率。推薦石墨棒的調(diào)壓方式選擇可控硅調(diào)壓或調(diào)壓器調(diào)壓。一般不采用通過改變周波數(shù)的調(diào)功器的方式來調(diào)整。一般情況下,石墨棒表面負荷密度是由爐內(nèi)溫度和石墨棒表面溫度的關系求得,建議使用石墨棒表面負荷密度1/2-1/3數(shù)值的功率。軋鋼廠軋制的型材,一部分可以直接作為成品材,還有一部分需要經(jīng)過熱處理。


爐罐輕微開裂后經(jīng)補焊使用不久

爐罐輕微開裂后經(jīng)補焊使用不久,又很快損壞,這主要是由于經(jīng)氧化、滲碳后焊接性能下降所致。由于滲碳爐罐的外側接近電熱元件,溫度較高,滲碳爐可達950一l000度,爐罐的內(nèi)側處于滲碳氣氛中,這就要求滲碳爐又需具有良好的抗?jié)B碳性。   結構:滲碳爐由爐殼、爐襯、爐蓋升降機構、爐用密封風機、馬弗罐、加熱元件及電控系統(tǒng)等組成 。滲碳爐爐殼由鋼板及型鋼焊接而成。爐襯是由0.6g/cm3高強度超輕質(zhì)節(jié)能耐火磚、硅酸鋁纖維、硅藻 土保溫磚及石棉板砌筑而成的節(jié)能型復合結構。爐蓋升降機構由電機、齒輪泵等部件組成,當開啟爐蓋 時,只需按下控制箱上的按鈕,爐蓋即以30—70毫米/秒的速度上升??刂泼姘迮溆兄悄軠囟日{(diào)節(jié)儀,控制電源開關、主加熱工作/停止按鈕,電壓、電流表、計算機接口,水泵開關,真空泵開關,氣體流量計,正負壓壓力表,電接點壓力表,閥門,以便隨時觀察本系統(tǒng)的工作狀態(tài),靈活方便、操作簡單。


井式加熱爐設備的具體構成

  井式加熱爐爐殼由型鋼及鋼板組焊而成,可實現(xiàn)爐蓋和爐體之間的密封,并在爐殼上部設置排煙裝置。

  井式加熱爐帶有保溫功能的爐蓋能與爐罐氣密配合,保證爐內(nèi)氣氛有良好的密封性。井式加熱爐下部裝有集風罩,能與導流筒配合。井式加熱爐循環(huán)風扇裝于爐蓋,用于加強溫度和氣氛的均勻性。井式加熱爐爐蓋升降和旋轉為旋臂式軸心傳動機構,爐蓋上裝有升降導向用導向裝置。爐蓋升降和旋轉為旋臂式軸心傳動機構。。爐蓋坐落在爐口上法蘭陶瓷纖維編織繩上。在蓋體的保溫包下裝有與導流筒配合的導風罩,導風罩通過多個吊桿吊掛在蓋體的法蘭式面板上。爐蓋自動升降行走結構運行平穩(wěn),壽命不低于5年 。溫度自動操控常用調(diào)理規(guī)律有二位式、三位式、份額、份額積分和份額積分微分等幾種。

  井式加熱爐爐底襯由輕質(zhì)粘土磚和重質(zhì)抗?jié)B碳砌筑而成,爐墻襯為復合爐襯結構,耐火層采用輕質(zhì)粘土磚,保溫層用陶瓷纖維棉或粘土磚,各層經(jīng)過優(yōu)化設計。井式加熱爐在耐火層內(nèi)預制了不銹鋼掛鉤,用于電阻絲、帶的安裝。

  加熱裝置均勻布置在爐襯墻體的周圍,井式加熱爐由高溫電熱合金帶繞制成波紋狀,分布在各個加熱區(qū)內(nèi),安裝方式確保加熱均勻性和使用壽命以及高的可靠性,安裝、維修方便。井式加熱爐每一個加熱區(qū)都設有測溫和超溫報警熱偶。

  井式加熱爐回火爐主要由爐殼、爐襯、加熱元件、爐罐、導風筒、爐蓋、爐蓋升降及旋轉(或平移)系統(tǒng)、循環(huán)風機等部分組成。加熱系統(tǒng)有效控溫,保證有效加熱區(qū)的溫度均勻性。


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