真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術，通常稱為干式鍍膜技術。

真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。

物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質反應膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。物理氣相沉積技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復性好等優(yōu)點。同時，物理氣相沉積技術由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質合金類的薄膜刀具上。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們在競相開發(fā)、高可靠性設備的同時，也對其應用領域的擴展，尤其是在高速鋼、硬質合金和陶瓷類刀具中的應用進行了更加深入的研究。

化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。

DLC真空鍍膜機有哪些種類,分別運用到哪些領域

DLC真空鍍膜機只是鍍膜機里面屬于金剛石行業(yè)的類型設備，真空鍍膜機在不同行業(yè)里，即有著相對應行業(yè)不同的類型設備，自然運用也是略有不同。大家可能平時接觸比較少，聽它的名字，就只知道，一般運用到金屬行業(yè)會偏多。別看叫DLC真空鍍膜機，但是它也是要細分好多種型號，不同型號的設備，鍍的產(chǎn)品是不一樣的，自然效果也就不一樣。

它應用于五金件、玻璃工藝品、陶瓷工藝品等，如手表、手機金屬殼、潔具、刀具、模具、電子產(chǎn)品、水晶玻璃等。并且他是專業(yè)在塑料玻璃金屬等表面進行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的專用設備，DLC真空鍍膜設備鍍出的膜層牢固且細密環(huán)保，我們?nèi)粘Ｉ钪卸茧x不開DLC真空鍍膜設備。

臥式蒸發(fā)真空鍍膜設備

該設備結構合理、膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光環(huán)、化妝品、玩具等行業(yè)。

臥式蒸發(fā)真空鍍膜設備具有：結構合理、膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光環(huán)、化妝品、玩具等行業(yè)。

鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全?。?、工藝電鍍、拉絲、雨滴、七彩等等。

至成鍍膜機廠家可以根據(jù)用戶要求設計各種規(guī)格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進行設計配置。

鍍膜理論

鍍膜控制穿過光學干涉機制的反射光和透射光。當兩個光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時，波峰值的空間位置也匹配并將結合創(chuàng)建較大的總振幅。當光束為反相位（180°位移）時，其疊加會導致在所有峰值的消減效應，導致結合的振幅降低。這些效應被分別稱為建設性和破壞性的干涉。

光的波長和入射角通常是的，折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會影響鍍膜內(nèi)光線的路徑長度，并將在光透射時改變相位值。這種效應可簡單地通過單層增透膜例子說明。當光傳輸穿過系統(tǒng)時，在鍍膜任一側的兩個接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了盡量減少反射，我們希望它們在個接口重組時，這兩個反射部分具有180°的相位移。這個相位差異直接對應于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學厚度設置為λ/4獲得良好實現(xiàn)。