公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻工藝

是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫器件結(jié)構(gòu)，再通過刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)換到襯底上。原位芯片目前掌握電子束光刻，步進(jìn)式光刻，接觸式光刻等多種光刻技術(shù).

光刻板的應(yīng)用光刻技術(shù)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體器件，集成電路制造過程中

在用玻璃標(biāo)定板標(biāo)定時(shí)候都有遇到過標(biāo)定板反光問題，有時(shí)候不能用背光源，只能用前置光源，光源投射下來，玻璃本身就是反光材料，燈光一亮反光嚴(yán)重，甚至導(dǎo)致無法標(biāo)定板。

光刻掩膜版材質(zhì)可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時(shí)所常用的光刻掩膜版。

在容柵電子光學(xué)微影技術(shù)性中，光罩表層的擋光圖樣會(huì)與基鋼板上的光阻層觸碰磨擦，非常容易促使擋光圖樣損耗促使光罩使用期減少。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。另一個(gè)，當(dāng)施膠光亮阻層的基鋼板表層并不是十分整平時(shí)，光罩與光阻層會(huì)造成不確定性的間隙與間距，而導(dǎo)致光源的光學(xué)散射與繞射，從而導(dǎo)致曝i光的規(guī)格偏差，而且導(dǎo)致光阻層淺部一部分的側(cè)面曝i光范疇擴(kuò)張，因此沒法制做出深?yuàn)W長寬比的光阻構(gòu)造。