微弧氧化技術(shù)的發(fā)展

       微弧氧化技術(shù)是北京師范大學(xué)核科學(xué)與技術(shù)學(xué)院（低能核物理研究所）（北京市輻射中心）1992年起開發(fā)的科研課題，先后得到國家教委、國家九五863高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃、國家自然科學(xué)基jin的大力支持。1997-1998年完成國家“863”計(jì)劃項(xiàng)目“等離子體微弧氧化表面改性技術(shù)”，1997年12月“鋁合金微弧氧化技術(shù)”通過國家教委和863專家組的聯(lián)合專家鑒定。微弧氧化處理的輕金屬表面形成一層膜，具有很好的耐磨耐腐蝕的特性。2002年微弧氧化設(shè)備獲得國家重點(diǎn)新產(chǎn)品證書，2004年微弧氧化雙極性大功率脈沖電源獲得發(fā)明專利。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

       微弧氧化電源可存儲或調(diào)用多套工藝參數(shù)，自動化程度高，可大幅度提高工件陽極氧化膜層的硬度和氧化膜層的耐蝕性、致密性。可廣泛作為航空、航天、器械、船舶等。同時，微弧電子學(xué)又是一種新型‘塑形’技術(shù)，通過負(fù)電性等離子體對材料進(jìn)行納米尺度選取剝離，實(shí)現(xiàn)以非接觸式方式加工出精密零件，具有廣闊的應(yīng)用前景。民用企業(yè)以及科研院所、國家重點(diǎn)材料實(shí)驗(yàn)室、大專院校的材料學(xué)院對鋁、鋁合金、鎂合金、鈦合金材料的微弧氧化。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化工藝、微弧氧化電源、微弧氧化廠家

       微弧氧化的原理

       微弧氧化通過讓氧與鋁結(jié)合，使鋁合金（輕質(zhì)但硬度、耐蝕性不足）表面原位生成一層氧化鋁陶瓷，使其表面變得質(zhì)硬且耐蝕，進(jìn)而達(dá)到了延長材料使用壽命的目的。同時，微弧電子學(xué)又是一種新型‘塑形’技術(shù)，通過負(fù)電性等離子體對材料進(jìn)行納米尺度選取剝離，實(shí)現(xiàn)以非接觸式方式加工出精密零件，具有廣闊的應(yīng)用前景。目前，微弧氧化技術(shù)在國內(nèi)外均未進(jìn)入大規(guī)模工業(yè)應(yīng)用階段，但該技術(shù)生成陶瓷膜的特點(diǎn)決定了其特別適合于對高速運(yùn)動且耐磨、耐蝕性能要求高的部件處理。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

微弧氧化膜層的性能能夠達(dá)到何種程度？

       一般來講，微弧氧化膜層是瞬間高溫下生成的內(nèi)部致密的陶瓷層，膜層均具有良好的膜基結(jié)合力、硬度、耐磨耐腐蝕特性、高的絕緣性及耐高溫氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工藝下制備的膜層性能也有差異。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因?yàn)閺纳晌飦砜?，氧化鋁硬度及耐磨性均高于氧化鎂，鋁表面氧化膜硬度高可以達(dá)到HV3000。但是通常單純考慮這種極限性能并不可取，如單純提高膜層的硬度，可能需提高膜層厚度，降低膜基結(jié)合力，對膜層整體性能不利。因此，一般很少單獨(dú)強(qiáng)調(diào)某種性能。同時由于是在電解液中，熔融物將瞬間冷凝，在基體表面生成一層陶瓷。只是如果有特殊要求，可以提出，整體加以調(diào)制，在滿足特殊需求的基礎(chǔ)上使膜層整體具有良好性能。如，某鎂合金需要耐蝕，可以根據(jù)需求對膜層厚度、溶液成分等進(jìn)行調(diào)制，滿足耐蝕400小時、600小時等特殊需求。