真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動(dòng)能量超過(guò)表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)的作用下的高速運(yùn)動(dòng)轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來(lái)而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。多年來(lái)用戶對(duì)我們的認(rèn)可，支持及期望，是對(duì)華福包裝材料公司的信任與鞭策，華福包裝材料公司將為用戶提供更先進(jìn)、更優(yōu)質(zhì)、性價(jià)比更高的鍍鋁膜，設(shè)備和更迅速、更及時(shí)、更貼心的服務(wù)來(lái)回報(bào)廣大需求客戶的厚愛(ài)，與用戶共創(chuàng)美好之未來(lái)。

真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點(diǎn)是加熱源的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，造價(jià)低廉，操作方便；鍍鋁膜在復(fù)合包裝中的應(yīng)用十分廣泛，目前主要應(yīng)用于餅干等干燥、膨化食品包裝以及一些醫(yī)(yi)藥、化妝品的外包裝上。缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對(duì)被轟擊材料加熱，電子束的動(dòng)能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價(jià)很高，目前只能在少數(shù)研究性實(shí)驗(yàn)室中使用。

濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同。“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因?yàn)殡x子在電場(chǎng)下易于加速獲得所需要?jiǎng)幽埽虼舜蠖疾捎秒x子作為轟擊粒子。濺射過(guò)程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上，即濺射離子都來(lái)源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場(chǎng)控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點(diǎn)。如任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點(diǎn)，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；彩色鍍鋁膜電話特點(diǎn)：1、鍍鋁層的附著力強(qiáng),亮度較好2、有良好的阻隔作用3、有優(yōu)良的機(jī)械性能還能染上美麗的圖形、印刷上裝潢圖案。薄膜密度高；膜厚可控制和重復(fù)性好等。缺點(diǎn)是設(shè)備比較復(fù)雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強(qiáng)的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。

鍍鋁膜是采用特殊工藝在塑料薄膜表面鍍上一層極薄的金屬鋁而形成的一種復(fù)合軟包裝材料，其中常用的加工方法當(dāng)數(shù)真空鍍鋁法，就是在高真空狀態(tài)下通過(guò)高溫將金屬鋁融化蒸發(fā)，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤。

鍍鋁膜指的是通過(guò)真空鍍鋁機(jī)在型基材薄膜上，利用高溫將鋁氣化沉淀的原理進(jìn)行蒸鍍生產(chǎn)的薄膜，鍍鋁膜具有亮閃閃的外觀，近似于鋁箔，一般被鍍鋁的基材主要有三類：OPP和CPP、PET，鍍鋁膜具有一定的阻隔性能，要優(yōu)于未鍍鋁前。其實(shí)鍍鋁膜就是將塑料薄膜，如PET薄膜，OPP薄膜，PVC薄膜，當(dāng)然還有別的薄膜，都可以，置入真空鍍鋁機(jī)。如果您對(duì)我們的供應(yīng)鍍鋁膜，鍍鋁膜價(jià)格，鍍鋁膜市場(chǎng)價(jià)格，鍍鋁膜批發(fā)，鍍鋁膜銷售商感興趣，請(qǐng)隨時(shí)撥打華福包裝材料有限公司熱線電話詳細(xì)了解。

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