佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解.

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：

鍍膜時間：膜層厚度隨鍍膜時間的增加而增加,但不是線形增加,當厚度達到一定的時候,增加速度會變慢后基本停止,而且鍍膜時間越長膜層應(yīng)力越大.外觀越差。

送氣方式和氣體流量：采用從少到多逐步增加氣體流量的方式加氣使膜層從金屬逐漸過渡到化合物是很好的一種加氣方式，如做黑膜這樣還可以延緩靶，使顏色做得更深。

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響

靶基距：靶基距是影響成膜速率的重要因素之一，隨著靶基距增加，被濺射材料射向基片時與氣體分子碰撞的次數(shù)增多，同時等離子體密度也減弱，動能減少，沉積速率降低，但膜層外觀較好。靶基距太小，沉積太快，工件溫升大，膜層外觀差。

靶功率；比如含有j基（Me化學式-CH3)的化合物，因成分中含有碳氫基團，都屬于有機類物質(zhì)。磁控濺射本身粒子初始動能比較小，離化率低，電源功率越大，濺射出的粒子的初始能量越大，靶材濺射量也越大，沉積速率越快，膜層容易上厚度和硬度，同時工件溫升也大，過高的功率會使沉積速率太快，粒子來不及表面遷移和擴散，易形成陰影效應(yīng)，膜層會比較疏松，應(yīng)力較大。

佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

PLD缺點：1、在鍍膜過程中，薄膜會被沉積在薄膜上的等離子本管中產(chǎn)生的微粒、氣態(tài)原子和分子降低質(zhì)量，采取一定的措施后也

不能完全消除.2、在控制摻雜、生長平滑的多層膜等方面PLD生長部比較困難，因此進一步提高薄膜的質(zhì)量會比較困難.

常見的濺射有兩種：不反應(yīng)濺射和反應(yīng)濺射。不反應(yīng)濺射指濺射氣體和鍍膜材料之間不發(fā)生化學反應(yīng)。因此不反應(yīng)濺射所使用的氣體為惰性氣體，一般使用y氣（Ar），稱為工作氣體。不反應(yīng)濺射一般都用在鍍金屬膜層上，導電性能越好的材料，濺射速率越高。