真空電鍍?cè)?

  電鍍廠需要一個(gè)向電鍍槽供電的低壓大電流電源以及由電鍍液、待鍍零件(陰極)和陽極構(gòu)成的電解裝置。其中電鍍液成分視鍍層不同而不同，但均含有提供金屬離子的主鹽，能絡(luò)合主鹽中金屬離子形成絡(luò)合物的絡(luò)合劑，用于穩(wěn)定溶液酸堿度的緩沖劑，陽極活化劑和特殊添加物(如光亮劑、晶粒細(xì)化劑、整平劑、潤濕劑、應(yīng)力消除劑和抑霧劑等)。

電鍍的含義：

  鍍層金屬或其他不溶性材料做陽極，待鍍的金屬制品做陰極，鍍層金屬的陽離子在金屬表面被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表面性質(zhì)或尺寸.電鍍能增強(qiáng)金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導(dǎo)電性、潤滑性、耐熱性、和表面美觀。

鍍層厚度計(jì)算常用單位

  1、微米nm換算0.001毫米(mm)=1微米(μm)即千分之一毫米

  2、微英寸uin就是平時(shí)說的u"（讀mai）換算1um=39.4uin≈40uin

  3、毫英寸mil就是平時(shí)說的密耳。換算1mil=25.4um

電鍍電源的選用是否正確，直接關(guān)系到鍍層質(zhì)量、鍍槽生產(chǎn)能力、能源的消耗及投資的效益。直流電機(jī)因耗能大、效率低，已基本淘汰;硅整流電源價(jià)格低，但效率也不理想。為了進(jìn)一步提高整流設(shè)備效率，縮小整機(jī)體積和減輕重量，近生產(chǎn)出了高頻開關(guān)電源設(shè)備。盡管開關(guān)電源設(shè)備的價(jià)格較高，但很快能收回投資，并能提高電鍍質(zhì)量。因此，加工大批量單一產(chǎn)品時(shí)，選用可控硅電源較好;加工負(fù)載經(jīng)常有變化的多品種產(chǎn)品時(shí)，選用開關(guān)電源可取得較好的節(jié)能效果。

電鍍廠操作說明：

1.請(qǐng)?jiān)谶^濾機(jī)出口處加裝塑膠凡而

2.使用前先打開排氣閥

3.關(guān)緊出口凡而后啟動(dòng)電源開關(guān)馬達(dá)開始運(yùn)轉(zhuǎn)，使氣體及液體經(jīng)由排入加藥槽。

4.打開循環(huán)閥，再打開加藥閥，使藥液在加藥槽內(nèi)產(chǎn)生固定水位后加入助濾粉，循環(huán)3分鐘后再加入活性碳粉再循環(huán)3分鐘，此時(shí)排出的液體同樣沒有活性碳粉排出即可。

5.利用檢測口閥，直接取樣檢查液體清潔程度及過濾效果。

6.打開出口凡而后，關(guān)緊循環(huán)閥，再關(guān)緊排氣閥，后看加藥槽內(nèi)藥液剩下少許再關(guān)緊加藥閥，完成加藥過程度使過濾機(jī)正常過濾。

  PVD真空電鍍加工K金色膜層具有成膜速度高，膜層粘附性好，附著牢固等特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于各個(gè)五金行業(yè)。

PVD鍍膜過程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)一名稱。所以對(duì)于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。