化學拋光中往往同時產生氫氣，這是在拋光具有氫脆敏感性材料時必須注意的問題。另外拋光液溫度高達100~200CC時，還會發(fā)生退火作用。為了把氫脆和退火作用的影響降到，就必須在適溫度范圍內選擇盡可能短的拋光時間。

化學拋光與機械研磨拋光有本質上的不同。

化學拋光是將被研磨面上的微小凸部與凹部相比較的情況下使其凸部優(yōu)先溶解，改善金屬表面粗糙度，獲得平滑光亮表面的過程。

拋光加工前，必須將拋光溶液加熱到工藝規(guī)范以內。工藝要求拋光表面全光亮時，溶液溫度宜控制在95℃~100℃。若工藝要求拋光表面一般光亮時，溶液溫度宜控制在110℃~120℃?；瘜W拋光是一種將金相樣品浸入調配的化學拋光液中，借化學藥劑的溶解作用而得到的拋光表面的拋光方法?；瘜W拋光是常見的金相樣品拋光方法之一，這種方法操作簡便，不需任何儀器設備，只需要選擇適當的化學拋光液和掌握的拋光規(guī)范，就能快速得到較理想的光潔而無變形層的表面。

化學拋光操作步驟

1：試樣準備：試樣經精磨光后清洗。

2：配置化學拋光溶液?；瘜W拋光溶液應在燒杯中調配，根據試樣材料選擇化學拋光液配方，配溶液時應用蒸餾水，藥品用化學純試劑。某些不易溶于水的藥品需要加熱 溶液才能溶解。和腐蝕性很強，調配時需注意安全?；瘜W拋光溶液經使用之后，溶液內金屬離子增多，拋光作用減弱，如果發(fā)現作用緩慢，氣泡減 少，應更換新藥液。

3：試樣用竹夾或者木夾夾住浸入拋光液中，一邊攪動并適時取出觀察至達到拋光要求后取出。

4：化學拋光結束之后，試樣應立即清洗、吹干。

階段是化學拋光時金屬表面現象的幾何凸凹的整平，去除較粗糙的表面不平度，獲得平均為數微米到數十微米的光潔度；第二階段是晶界附近的結晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相當于光波長的范圍。可將階段稱為宏觀拋光或平滑化，把第二階段稱為微觀拋光或光澤化。