什么是蝕刻標牌？

蝕刻標牌是指金屬標牌的圖片與金屬表面不在同一個表面，并以蝕刻的方式而制成。它可以是保留圖文，將圖文以外的區(qū)域蝕刻成下凹，稱為陽文蝕刻，或反蝕刻；也可以保留原材料的表面，使圖文區(qū)域蝕刻成下凹，稱為陰文蝕刻。

蝕刻標牌有圖文的性，常用于機械設備標牌和一些使用環(huán)境惡劣而需要作耐久性標識的場合。

蝕刻標牌是傳統(tǒng)性的標牌。一直業(yè)內大家都習慣稱它為腐蝕標牌。鉻酐在電鍍鉻溶液中不僅起到穩(wěn)定鍍液的作用，而且對ph也有一定的緩沖作用，從而使得鍍層厚度可持續(xù)增加。有人說叫它腐蝕標牌不是很妥切，因為腐蝕一詞多指金屬在自然條件下所遭受的破壞行為的一種結果；而蝕刻則是一種有意識、有選擇性的，為達到預期目的而實施的一種刻意行為。但不管怎樣，這種工藝過程，卻經歷了二十多年的發(fā)展，直到目前為止，還不能完全取消這種傳統(tǒng)工藝。

鏤空產品的細線條應在基材厚度的 1.2 倍以上； 表面蝕刻產品的細線條間隔應在 0.16mm 左右， 這在 0.16mm 當中黑線與白地的比例視反光度不同可作成 1∶3、2∶2、2∶1。雙面蝕刻產品的正反菲林片四周應有清晰準確的對準十字線， 且正反兩張片都要藥膜帖近基材。 （以銅板為例） 板材正面用 2400 轉/分布輪拋光， 1.2 板材處理 達到鏡面效果，然后去臘、除油、清洗、干燥待用。 1.3 網(wǎng)印光致成像感光膠 因為制作圖案極細。蝕刻就是在它的上面進行加工，一起來看看金屬標牌蝕刻突破瓶頸的模式吧。顯影后無法修補，因此選擇好的感光膠尤 為重要。我公司選用高氏（coates）光致成像耐蝕油墨，在黃光或 紅光下用 200 目絲網(wǎng)滿版印刷， 頭次印拋光面， 100℃烘 15 分鐘， 第二次印反面，再用 100℃烘 30 分鐘，待冷卻，表面不粘手，方可 進行曝光。 1.4 曝光 吸氣哂版機曝光。曝光時間 20－100 秒不等，線條越細，曝光 時間越長，反之則短。 1.5 顯影 用 3－5%碳酸鈉水溶液顯影， 水溫在 50℃左右， 水泡數(shù)秒鐘后， 用軟羊毛刷輕輕將水溶液刷除，然后清水漂洗二次，達到完全沒有殘 留膠為止。將濕銅板直接進行蝕刻，也可晾干后再行蝕刻。

蝕刻是在光刻過的基片上可通過濕刻（wet etching）和干刻（dry etching）等方法將 阻擋層上的平面二維圖形加工成具有一定深度的立體結構。選用適當?shù)奈g刻劑，使 它對光膠、薄膜和基片材料的腐蝕速度不同，可以在薄膜或基片上產生所需的微結 構。 ? 復雜的微結構可通過多次重復薄膜沉積－光刻－蝕刻這三個工序來完成。蝕刻設備的維護維護蝕刻設備的最關鍵因素就是要保證噴嘴的高清潔度及無阻塞物,使噴嘴能暢順地噴射。微流控基片通過預處理，涂膠，前烘，曝光，顯影及堅膜，去膠等步驟后，材料上 呈現(xiàn)所需要的圖形，即通道網(wǎng)絡。 蓋板與微流控芯片基片的封接 ? 基片和蓋板封接后形成封閉的小池，可用來儲存試劑或安裝電極。