真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

真空鍍膜的物理過程

PVD（物理氣相沉積技術(shù)）的基本原理可分為三個工藝步驟：

（1）鍍料的氣化：即鍍料的蒸發(fā)、升華或被濺射從而形成氣化源

（2）鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞，產(chǎn)生多種反應(yīng)。

（3）鍍料粒子在基片表面的沉積

PVD鍍膜真空五金鍍膜

真空鍍膜表面處理工藝后鋁型材的特征

磨砂面料型材：磨砂面鋁型材避免了光亮的鋁合金型材在建筑裝飾中存在環(huán)境、條件下會形成光的干擾的缺點，它的表面如錦緞一樣細膩柔和，很受市場的青睞，但現(xiàn)有的磨砂材須克服表面砂粒不均勻，并能看到模紋的不足。

PVD鍍膜技術(shù)的原理?

?PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量，在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行鍍膜。鏡頭的鍍膜是根據(jù)光學(xué)的干涉原理，在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長的物質(zhì)(通常為氟化物)，使鏡頭對這一波長的色光的反射降至低。顯然，一層膜只對一種色光起作用，而多層鍍膜則可對多種色光起作用。真空鍍膜廠家 多層鍍膜通常采用不同的材料重復(fù)地在透鏡表面鍍上不同厚度的膜層。多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率，