在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用上，鍍膜靶材是核心技術(shù)，通過不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學(xué)鍍膜材料，普遍應(yīng)用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、、硒等金屬。在反射鏡的光學(xué)材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，在輸出端和透射光學(xué)原件中鍺、、硒化鋅等應(yīng)用廣泛。硅橡膠經(jīng)ParyleneCoating后可以在硅膠按鍵產(chǎn)品的表面形成的一種均勻而極薄（2-3μm）、且與原產(chǎn)品表面輪廓相一致的聚合物保護(hù)層。

隨著鍍膜技術(shù)的不斷推廣，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將隨著我們生活水平的提高為我們的生活帶來更多的精彩。

納米鍍膜

　納米鍍膜機(jī)的工藝流程，塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法，即將鋁層直接鍍?cè)诨谋∧け砻妗OPET、BOPA薄膜基材鍍鋁前不需進(jìn)行表面處理，可直接進(jìn)行蒸鍍。而BOPP、PE等非極性塑料薄膜，在蒸鍍前需對(duì)薄膜表面進(jìn)行電暈處理或涂布黏合層

轉(zhuǎn)移法。是借助載體膜(真空鍍鋁膜)將金屬鋁層轉(zhuǎn)移到基材的表面而形成鍍鋁薄膜。轉(zhuǎn)移法是在直接蒸鍍法的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對(duì)基材要求的局限性

真空鍍膜的方法很多，計(jì)有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體(如)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點(diǎn)。東莞拉奇納米科技有限公司,是將派瑞林(parylene)高分子材料裂解為納米分子再進(jìn)行產(chǎn)品表面的真空鍍膜處理。