PVD是英文PhysicalVaporDepsition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用真空鍍膜設(shè)備氣體放電使鈦板蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍膜通常稱謂：金屬表面處理，鍍膜，鍍鈦，真空鍍鈦，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理加工，真空鍍膜加工，表面處理等.

的附著力–可以折彎90度以上不發(fā)生裂化或者剝落（PVD鍍膜持有很高附著力和耐久力）。其它的技術(shù)，包括電鍍，噴涂都不能與其相比。鍍層薄，但具有高度耐磨損，耐刮擦，不易劃傷。高硬度，低摩擦系數(shù)。不會改變基材本身的外觀，比如鏡面，拉砂紋，蝕刻紋，花紋，CD紋等不會覆蓋?？梢晕g刻出任何能夠想象出的設(shè)計圖案。

真空鍍膜離子鍍，電鍍混合廢水處理生化過程與傳統(tǒng)的物理和化學(xué)過程，生物絮凝劑之間大的區(qū)別可連續(xù)操作過程中的育種，生物絮凝劑，以去除金屬離子與生物絮凝增加量的增加的劑量，傳統(tǒng)的離子交換過程中的離子交換樹脂的交換容量是有限的，飽和吸附后，不再能夠除去金屬離子。一種離子鍍系統(tǒng)，以基片作為陰極，陽極殼，惰性氣體(氣)，以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源的分子通過等離子體的電離區(qū)域。的正離子被加速襯底臺到襯底表面上的負(fù)電壓。化學(xué)沉淀法，化學(xué)主體的影響是一定的，沒有它們的增殖。離子鍍工藝結(jié)合蒸發(fā)(高沉積速率)和濺射層(良好的薄膜粘合)的工藝特點，并具有很好的衍射，對于形狀復(fù)雜的工件涂層。