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發(fā)布時間:2020-08-25 17:37  






佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產廠家,公司秉承“以質取勝,求真務實,顧客至上”理念,歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產品錦上添花.

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響 :

偏壓:偏壓施加于工件上,在輝光清洗時工件(陰極)與爐體之間產生輝光放電,部分氣被電子離化產生離子,離子(帶正電)在負偏壓作用下受工件吸引轟擊清洗工件表面,偏壓越大,對工件的轟擊凈化越干凈,但同時工件本身的溫升也越大,特別是尖角位棱角位置;在離子轟擊中用于加速離子,提高離子轟擊工件表面的能量,去除表面氧化層和吸附物,達到提高膜層結合力的作用。真空鍍膜之磁控濺射鍍膜:磁控濺射的基本原理就是以磁場改變電子運動方向,束縛和延長電子的運動軌跡,從而提高了電子對工作氣體的電離幾率和有效地利用了電子的能量。


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輝光清洗:對工件施加負偏壓,產生輝光放電,利用ya離子轟擊工件表面,這種輝光放電清洗作用比較柔和,一般采取由弱到強的轟擊清洗順序,是怕工件太臟時一開始就強轟擊,可能產生強烈的打火而損傷工件。

離子鍍工藝則有所不同,雖然也是在真空罩內進行的,但這時鍍膜過程是以電荷傳遞的形式來實現(xiàn)的。真空鍍膜之磁控濺射鍍膜:電子的運動路徑不僅很長,而且被電磁場束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內,在該區(qū)中電離出大量的離子用來轟擊靶材,從而實現(xiàn)了磁控濺射沉積速率高的特點。也就是說,蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)的吸引下,以很高的速度注入到工件表面。相當于一個從槍g中射出的高速彈頭,可以穿入靶體很深,在工件上形成一種附著牢固的擴散鍍層。



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