真空腔體

真空技術(shù)主要包括真空獲得、真空測量、真空檢漏和真空應用四個方面.在真空技術(shù)發(fā)展中,這四個方面的技術(shù)是相互促進的.

隨著真空獲得技術(shù)的發(fā)展,真空應用日漸擴大到工業(yè)和科學研究的各個方面.真空應用是指利用稀薄氣體的物理環(huán)境完成某些特定任務.有些是利用這種環(huán)境制造產(chǎn)品或設(shè)備,如燈泡、電子管和等. 這些產(chǎn)品在使用期間始終保持真空,而另一些則只是把真空當作生產(chǎn)中的一個步驟,產(chǎn)品在大氣環(huán)境下使用,如真空鍍膜、真空干燥和真空浸漬等.

真空的應用范圍極廣,主要分為低真空、中真空、高真空和超高真空應用.

影響真空絕緣水平的主要因素

空隙間隔

真空的擊穿電壓與空隙間隔有著比較清晰的關(guān)系。試驗標明，當空隙間隔較小時，擊穿電壓跟著空隙間隔的添加而線性添加，但跟著空隙間隔的進一步添加，擊穿電壓的添加減緩，即真空空隙發(fā)作擊穿的電場強度跟著空隙間隔的添加而減小。當空隙到達一定的長度后，單靠添加空隙間隔進步耐壓水平已經(jīng)好不容易，這時選用多斷口反而比單斷口有利?；逋ǔＳ幸粋€位于中心位置的端口或者法蘭連接裝置，可連接到真空抽氣系統(tǒng)。

一般以為短空隙下的穿主要是場致發(fā)射引起的，而長空隙下的的穿則主要是微粒效應所致。

電極資料

真空開關(guān)作業(yè)在10-2Pa以上的高真空，因為此刻氣體分子十分稀疏，氣體分子的碰撞游離對擊穿已經(jīng)不起效果，因而擊穿電壓表現(xiàn)出和電極資料有較強的相關(guān)性。

真空空隙的擊穿電壓跟著電極資料的不同而不同，研究者發(fā)現(xiàn)擊穿電壓和資料的硬度與機械強度有關(guān)。一般來說，硬度和機械強度較高的資料，往往有較高的絕緣強度。比如，鋼電極在淬火后硬度進步，其擊穿電壓較淬火前可進步80%。

此外，擊穿電壓還和陰極資料的物理常數(shù)如熔點、比熱和密度等正相關(guān)，即熔點較高的資料其擊穿電壓也較高。比照熱和密度而言亦然。這一問題的實質(zhì)是在相同熱能的效果下，資料發(fā)作熔化的概率越大，則擊穿電壓越低。

真空腔體制造技術(shù)

提供專用設(shè)備腔的定制服務，腔體的外形和開口可以根據(jù)用戶要求進行設(shè)計。

表面分析腔有通用腔體，用戶也可以在通用腔體的基礎(chǔ)上進行自定義設(shè)計。

手套箱和焊接箱專用于熔煉或焊接鈦、鋅等對易在大氣中氧化的材料。

真空密封頸是基板和鐘形罩之間的過渡組件，它可以提供額外的高度和更多的自由端口。

裝載鎖定室是建在主腔體上的小腔體，可在不破壞主腔體真空度的條件下，將樣本、晶片或其他組件從外部大氣環(huán)境移動到內(nèi)部高真空環(huán)境中。

真空腔體可以按照真空度進行分類，包括粗或低真空度(< 760, > 1 torr)，中真空度(< 1, >10-3 torr)，高真空度(< 10-3, >10-8 torr)，超高真空度(< 10-8 torr)，以及非真空的高壓力 (> 760 torr)。真空腔的寬度和外徑等常規(guī)尺寸是非常重要的參數(shù)。標準鐘形罩或柱形腔體的可選直徑是12英寸，14英寸，18英寸和24英寸。真空腔體或者真空組件的可選項包括法蘭、裝配形式、表面拋光或電拋光、開口或傳導口，加熱器和冷卻方式等。

真空腔體或者真空組件的可選項包括法蘭、裝配形式、表面拋光或電拋光、開口或傳導口，加熱器和冷卻方式等。

Ferrotec在真空中制造中的解決方案

使用磁流體密封件作為在旋轉(zhuǎn)過程中真空解決方案。磁流體密封件可以隔絕大氣和污染物。

制備的石英用來制造視口及配件等組件，石英在許多其他加工工藝中也有使用。

真空鍍膜可選Ferrotec的PVD電子束蒸發(fā)系統(tǒng)。

如需了解更多真空環(huán)境下的制造信息，請參考真空工業(yè)界的資料。

復雜的真空腔體通常需要定制，即針對應用終端進行專門的設(shè)計和制作。某些常見的真空腔體已經(jīng)過預先設(shè)計，如手套箱、焊接室、脫氣箱、表面分析真空腔等。例如脫氣箱和手套箱一般采用低真空環(huán)境，可用于焊接，或用于塑料制品、復合材料層壓板、封裝組件等的脫氣。真空腔體制造技術(shù)提供專用設(shè)備腔的定制服務，腔體的外形和開口可以根據(jù)用戶要求進行設(shè)計。