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潔凈室中的溫濕度控制
潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定,但在滿足工藝要求的條件下,應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高,出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉,但作為總的原則看,由于加工精度越來越精細,所以對溫度波動范圍的要求越來越小。相對濕度在40%至60%的范圍同樣也是人類感覺舒適的適度范圍。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中,作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100um的硅片,溫度上升1度,就引起了0.24um線性膨脹,所以必須有±0.1度的恒溫,同時要求濕度值一般較低,因為人出汗以后,對產(chǎn)品將有污染,特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間,這種車間溫度不宜超過25度,濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時,冷卻水管壁上會結(jié)露,如果發(fā)生在精密裝置或電路中,就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外,濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉,但當相對濕度低于30%時,又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面,同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)濕度范圍為35—45%。
光學(xué)微電子凈化工程解決方案:
2、光學(xué)微電子行業(yè)凈化工程設(shè)計方案分析之水冷柜機 增壓風(fēng)柜 高1效送風(fēng)口
缺點:
A.需要小面積的機房。需要有冷卻塔、冷卻水泵的擺放位置;
B.空調(diào)機組與空調(diào)處理機組要集中布置;
C.造價較低。特點:這種方案可以是一次回風(fēng)也可以是二次回風(fēng),具體根據(jù)車間的大小情況而定;這類方案一般可以適用于潔凈度為千級、萬級、十萬級等的凈化無塵廠房。
無塵室標準溫濕度是多少?
這個標準要根據(jù)你的無塵室用途和生產(chǎn)的產(chǎn)品來決定,比如電子類產(chǎn)品有些膠到24攝氏度就會明顯地液化,沒法用了,那使用這種膠的無塵室溫度范圍肯定要低,濕度也是類似的。
也就是說,決定溫濕度標準的是你的產(chǎn)品、工藝要求,而不是無塵室本身。無塵室要根據(jù)你的用途需求來進行設(shè)計,滿足你的溫濕度要求。沒有完全統(tǒng)一的無塵室溫濕度標準。
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