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    (1)電解條件的選擇。這里所指的電解，目的是要去除鍍液中的雜質(zhì)，但是在電解去除雜質(zhì)的同時，往往也伴隨有溶液中主要金屬離子的放電沉積。為了提高去除雜質(zhì)的速率，減慢溶液中主要金屬離子的沉積速率，就要注意電解處理的操作條件。

   ①電流密度：電解處理時，以控制多大的電流密度為好，原則上要按照電鍍時雜質(zhì)起不良影響的電流密度范圍。也就是說，在電鍍過程中，若雜質(zhì)的影響反映在低電流密度區(qū)，那么電解處理時應(yīng)控制在低電流密度下進行，假使雜質(zhì)的影響反映在高電流密度區(qū)，則應(yīng)選用高電流密度進行電解；如果雜質(zhì)在高電流密度區(qū)和低電流密度區(qū)都有影響，那么可先用高電流密度電解處理一段時間，然后再改用低電流密度電解處理，直至鍍液恢復(fù)正常。在一般情況下，凡是用低電流密度電解可以去除的雜質(zhì)，為了減少鍍液中主要放電金屬離子的沉積，一般都采用低電流密度電解。事實上，電鍍生產(chǎn)中，多數(shù)雜質(zhì)的影響反映在低電流密度區(qū)，所以通常電解處理的電流密度控制在0.1A／dm2-0.5A／dm2之間.[4]

  (2)電解處理的要求

    首先要查明有害雜質(zhì)是否來源于電解過程：電解處理可以去除某些雜質(zhì)，但有時也會產(chǎn)生雜質(zhì)。例如有害雜質(zhì)來源于不純的陽極，電解處理時仍用這種陽極，那么隨著電解過程的進行，雜質(zhì)會越積越多；又如雜質(zhì)來源于某些化合物在電極上的分解，那么電解將使這類分解產(chǎn)物逐漸增多。這樣的電解處理，不但不能凈化鍍液，反而會不斷加重鍍液的污染。因此，在電解處理前，要進行必要的檢查，預(yù)防處理過程中產(chǎn)生有害雜質(zhì)。

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沖壓件缺陷點評規(guī)則 1、開裂 檢測方式 ：看著 點評規(guī)則： A類缺陷：沒有通過培訓(xùn)的客戶也可以注意到的開裂，該類缺陷的沖壓件是客戶不可以接納的，發(fā)覺后務(wù)必馬上對沖壓件開展凍潔。 B類缺陷：看得清的可明確的微小開裂,該類缺陷沖壓件在Ⅰ、Ⅱ區(qū)是不可以接納的,別的地區(qū)容許作補焊返修解決，但返修部位是消費者不容易發(fā)現(xiàn)的且務(wù)必考慮沖壓件的返修規(guī)范。 C類缺陷：處在含糊不清的，細心檢測后明確的缺陷，該類缺陷的沖壓件在Ⅱ區(qū)內(nèi)部、Ⅲ、Ⅳ區(qū)作補焊返修解決，但返修部位是消費者不容易發(fā)現(xiàn)的且務(wù)必考慮沖壓件的返修規(guī)范。