真空鍍膜機真空器件的常用檢漏方法

真空鍍膜機真空器件的常用檢漏方法 依據(jù)電真空器材的結構特色及丈量精度要求，常用的有兩種檢漏辦法，即氦罩法和噴吹法（這兩種檢漏辦法具體介紹可見：氦罩法和噴吹法的氦質譜檢漏儀檢漏常見辦法）。檢漏時，先用氦罩法進行總漏率的測定，當總漏率超出答應值后再用噴吹法進行漏孔的認位。 氦罩法是被檢件與檢漏儀銜接抽真空到達檢漏狀況后，用一個充溢氦氣的查驗罩，把被檢件全體或部分的表面面包圍起來，如圖4所示。查驗罩充氦時先將罩內空氣排出再充氦，以確保罩內氦濃度盡可能挨近100百分之，被檢件上任何地方有走漏。 檢漏儀都會有漏率值改變，顯示出漏率值。氦罩時刻也要繼續(xù)3~5倍檢漏儀呼應時刻。ASM192T2氦質譜檢漏儀反應時刻小于0.5s,因而氦罩時刻30s即可。氦罩法可方便地測定被檢件總漏率，不會漏掉任何一處漏點，但不能確認漏孔方位。 噴吹法是將被檢件與儀器的真空體系相連，對被檢件抽真空后用噴槍向漏孔處吹噴氦氣。當有漏孔存在時，氦氣就經(jīng)過漏孔進入質譜儀被檢測出，噴吹法彌補了氦罩法不能定位的缺點。

空鍍膜設備廠家分析保護環(huán)境的意義

空鍍膜設備廠家分析真空鍍膜設備保護環(huán)境的意義 真空鍍膜設備對于環(huán)境也是有著非常重要的意義，所以市場對于真空鍍膜設備的使用率非常高，下面真空鍍膜設備廠家分析保護環(huán)境的意義。 真空鍍膜設備在電鍍中的應用，可以優(yōu)先改善全球污染狀況，告別化學鍍膜使用的缺點。在真空環(huán)境下，蒸發(fā)鍍膜不產(chǎn)生任何污染和其他無害物質，是一種綠色低碳的可持續(xù)發(fā)展。隨著社會的發(fā)展，許多企業(yè)開始使用這種真空鍍膜設備，提高了環(huán)保意識和環(huán)保意識。那么，發(fā)展綠色產(chǎn)業(yè)是一個永恒的發(fā)展趨勢。該真空鍍膜設備的技術也帶領了電鍍行業(yè)的主流。 因此真空鍍膜機鍍膜時，膜層的好壞，氣體啟著關鍵性的作用，是鍍膜環(huán)節(jié)不可或缺的一步。

真空鍍膜機中鎢絲的注意事項

真空鍍膜機中鎢絲的注意事項： 鎢在常溫下有較好的耐酸、堿能力，但在潮濕的空氣中易被氧化，所以細鎢絲不能在潮濕環(huán)境中貯存過久。另外鎢在1200℃上下就開始與碳起反應生成鎢的碳化物，所以對燈絲的燒氫處理要注意這個問題，否則鎢與其表面的石墨潤滑劑起反應，則燈絲就要變脆斷裂。 鎢絲一旦經(jīng)高溫使用發(fā)生再結晶以后就變得很脆，在受沖擊或震動的情況下極易斷裂。在一些要求高可靠性的電光源產(chǎn)品中，為防止燈絲的斷裂，常在摻雜鎢絲中加入3～5％的錸，稱為鎢錸絲，它可以使鎢的延脆轉變溫度下降到室溫或室溫以下。這是一種很奇特的錸效應，至今還未發(fā)現(xiàn)一種元素能代替錸，在鎢中產(chǎn)生同樣效應。

光學鍍膜機對于單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因

光學鍍膜機對于單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因 光學鍍膜機主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。 另外鏡片被鏡圈()邊緣部遮擋、鏡圈()臟在蒸鍍時污染鏡片等等也會造成膜色差異問題。 改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。 改善對策： ㈠ 條件許可，用行星夾具; ㈡ 選用傘片平坦(R大)的機臺; ㈢ 根據(jù)傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。 ㈣ 如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。 ㈤ 改善鏡圈()，防止遮擋。 ㈥ 注意旋轉傘架的相應部位對邊緣鏡片的部分遮擋 ㈦ 清潔鏡圈() ㈧ 改善膜料蒸發(fā)狀況。