真空鍍膜設(shè)備離子鍍的類型及特點

離子鍍是結(jié)合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術(shù)而發(fā)展起來的沉積技術(shù)。在真空條件下，采用適當?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構(gòu)成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質(zhì)廣、沉積速率快等優(yōu)點。

表離子鍍的種類及其特點

種類蒸發(fā)源離化方法工作環(huán)境特點用途

直流放電法電阻輝光放電dc:0.1kv～5kv惰性氣體1pa，0.25ma/cm2結(jié)構(gòu)簡單，膜層結(jié)合力強，但鍍件溫升高，分散性差！耐熱，潤滑等鍍件

弧光放電法電子束、燈絲弧光放電dc:100v高真空1.33x10-4pa離化率高，易制成反應(yīng)膜，可在高真空下成膜，利于提高質(zhì)量切削工具、金屬裝飾等鍍件

空心陰極法空心陰極等離子體電子束dc:0v～200v惰性氣體或反應(yīng)氣體離化率高，蒸發(fā)速度大，易獲得高純度膜層裝飾、耐磨等鍍件

調(diào)頻激勵法電阻、電子束射頻電場13.56mhzdc:0.1kv～5kv惰性氣體或反應(yīng)氣體離化率高，膜層結(jié)合力強，鍍件溫升低，但分散性差光學(xué)、半導(dǎo)體等鍍件

電場蒸發(fā)法電子束二次電子dc:1kv～5kv真空不純氣體少，能形成較好的膜電子元件

多陰極法電阻、電子束熱電子dc:0v～5kv惰性氣體或反應(yīng)氣體低速電子離化效果好裝飾、電子、精密機械等零件

聚焦離子束法電阻聚集離子束dc:0v～5kv惰性氣體因離子聚束，膜層結(jié)合力強電子元件

活性反應(yīng)法電子束二次電子dc:200v反應(yīng)氣體o2、n2、ch4、c2h4等金屬與反應(yīng)氣體組合能制備多種傾倒物膜層電子、裝飾、耐磨等鍍件

真空鍍膜機真空鍍膜機廠家真空鍍膜設(shè)備工藝清洗

真空鍍膜機真空工藝進行前應(yīng)清洗真空材料，從工件或系統(tǒng)材料表面清除污染物；車燈鍍膜機零部件的表面清洗處理也是很有必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源不僅會使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同時也會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

真空鍍膜機污染物可以定義為“任何一種無用的物質(zhì)或能量”，多弧離子鍍膜機根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固體、氣體及液體，它們以膜或散粒形式存在。就其化學(xué)特征來看，它可以處于離子態(tài)或共價態(tài)，可以是無機物或有機物。

真空鍍膜機暴露在空氣中的表面易受到污染，污染的來源有多種，起初的污染通常是表面本身形成過程中的一部分。吸附現(xiàn)象、化學(xué)反應(yīng)、浸析和干燥過程、機械處理以及擴散和離析過程都使各種成分的表面污染物增加。

雙色真空鍍膜機PVD技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點

很多人對真空鍍膜機PVD技術(shù)的了解不是特別全，也不知道具體是應(yīng)用到哪些行業(yè)，以及它在實際運用過程有哪些優(yōu)缺點?至成真空小編現(xiàn)在詳細和大家介紹一下:

真空鍍膜機PVD技術(shù)其應(yīng)用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空鍍膜機PVD技術(shù)其優(yōu)點是:

與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)相比，雙色PVD工藝更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，但外觀效果，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)要在實現(xiàn)雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎(chǔ)上把需要實現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來的區(qū)域就只能表現(xiàn)金屬的本色，表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度為HV600以上）。

真空電弧離子鍍膜技術(shù)

真空電弧離子鍍膜技術(shù)不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進行鍍膜；可以鍍金屬膜，氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜，還可以鍍氮化鈦摻金膜等。電弧離子鍍膜廣泛應(yīng)用于工具、模具的超硬涂層，汽車輪轂、高爾夫球具、鐘表、酒店用品、衛(wèi)浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領(lǐng)域。真空鍍膜機鍍膜技術(shù)及設(shè)備在當今和未來都擁有十分廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域和發(fā)展前景，特別是在制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜；在數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀錄儲存膜；在能充分展示和應(yīng)用各種光學(xué)特性的光學(xué)膜；在計算機顯示用的感光膜；在TFT、PDP平面顯示器上的導(dǎo)電膜和增透膜；在建筑、汽車行業(yè)上應(yīng)用的玻璃鍍膜和裝飾膜；在包裝領(lǐng)域用防護膜、阻隔膜；在裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜；在工、模具上應(yīng)用的耐磨超硬膜：在納米材料研究方面的各種功能性薄膜等等都是真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備在廣泛應(yīng)的基礎(chǔ)上得到的不斷發(fā)展的領(lǐng)域。