磁控濺射靶在鍍膜過程中的重要作用? ??

磁控濺射靶是真空磁控濺射鍍膜的核心部件，它的重要作用主要表現在以下兩個方面(1)對于大面積表面的鍍膜，磁控濺射靶影響著膜層的均勻性與重復性；(2)當膜層材料為貴重金屬時，靶的結構決定著靶材(形成薄膜的材料)，即該貴重金屬的利用率。

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我國真空鍍膜機行業(yè)發(fā)展現狀和前景分析

我國鍍膜機械，經過了幾十年發(fā)展，形成了門類齊全、布局合理，品種配套，真空鍍膜技術水平與鍍膜工業(yè)發(fā)展基本適應的體系，真空鍍膜設備已經不能再叫新行業(yè)了，其是一個有創(chuàng)新能力的成熟行業(yè)，鍍膜技術從重污染轉為輕污染直至以后的無污染，創(chuàng)新是前提，隨著更新型節(jié)能環(huán)保的真空機械設備研發(fā)必將改變整個工業(yè)。真空磁控濺射鍍膜所謂濺射就是用荷能粒子（通常用惰性氣體的正離子）去轟擊固體（以下稱靶材）表面，從而引起靶材表面上的原子（或分子）從其中逸出的一種現象。

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磁控濺射鍍膜設備技術的特點

創(chuàng)世威納——專業(yè)磁控濺射鍍膜設備機供應商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

(1)工件變形小 由于工件表面均勻覆蓋輝光，溫度一致性好，可以通過控制功率輸出來實現均勻升溫。另陰極濺射抵消了滲人元素引起的尺寸擴一大

(2) 滲層的組織和結構易于控制 通過調整工藝參數，可得到單相或多相的滲層組織

(3)工件無須附加清理 陰極濺射可以有效去除氧化膜，凈化工件表面，同時真空處理無新生氧化膜，這些都減少了附加設備和工時，降低了成本。

(4) 防滲方便 不需滲的地方可簡單地遮蔽起來，對環(huán)境無公害，無污染，勞動條件好。

(5) 經濟效益高，能耗小 雖然初始設備投資較大，但工藝成本極低，是一種廉價的工程技術方法。此外，離子轟擊滲擴技術易實現工藝過程或滲層質量的計算機控制，質量重復性好，可操作性強。