真空鍍膜機蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能

真空鍍膜機電子束蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能分析研究，為了獲得性能良好的半導體電極Al膜，我們通過優(yōu)化工藝參數，制備了一系列性能優(yōu)越的Al薄膜。通過理論計算和性能測試，分析比較了真空鍍膜設備電子束蒸發(fā)與磁控濺射兩種方法制備Al膜的特點。

嚴格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的，因為Al膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能，從而影響半導體器件的可靠性。對于高反壓功率管來說，它的工作電壓高，電流大，沒有一定厚度的金屬膜會造成成單位面積Al膜上電流密度過高，易燒毀。對于一般的半導體器件，Al層偏薄，則膜的連續(xù)性較差，呈島狀或網狀結構，引起壓焊引線困難，造成不易壓焊或壓焊不牢，從而影響成品率;Al層過厚，引起光刻時圖形看不清，造成腐蝕困難而且易產生邊緣腐蝕和“連條”現象。

采用真空鍍膜機電子束蒸發(fā)，行星機構在沉積薄膜時均勻轉動，各個基片在沉積Al膜時的幾率均等;行星機構的聚焦點在坩堝蒸發(fā)源處，各個基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調節(jié)并控制，因此膜厚的可控性和重復性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。

附著力反映了Al膜與基片之間的相互作用力，也是保證器件經久耐用的重要因素。真空鍍膜設備濺射原子能量比蒸發(fā)原子能量高1-2個數量級。真空鍍膜機高能量的濺射原子沉積在基片上進行的能量轉換比蒸發(fā)原子高得多，產生較高的熱能，部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射原子與基片原了相互溶合的偽擴散層，而且，在真空鍍膜設備成膜過程中基片始終在等離子區(qū)中被清洗，清除了附著力不強的濺射原子，凈化基片表面，增強了濺射原子與基片的附著力，因而濺射Al膜與基片的附著力較高。

真空鍍膜機冷卻系統(tǒng)的原理及監(jiān)控方法

真空鍍膜設備的金屬罩體通過安裝孔然后以焊接的方式固定在真空鍍膜機的外壁上，待冷卻的外壁通過加強圓槽形成渠道，這樣確保了冷卻的流通，也避免的死角現象的產生，有效的對鍍膜機進行了快速的降溫，降低了油泵的溫度，加強了冷卻的強度，結構簡單，安全可靠等有點，在真空鍍膜機冷卻外殼上包括金屬罩體的原因是數個排列有序，并且內凹的加強圓槽，所述加強圓槽呈半球形或圓錐臺形；在所述加強圓槽底部設有用連接現有真空鍍膜機的待冷卻外壁的安裝孔，所述金屬罩體通過安裝孔并以焊接方式固定在現有真空鍍膜機的待冷卻外壁上，在所述金屬罩體與待冷卻外壁之間通過加強圓槽構成循環(huán)通道，根據權利要求1所述的真空鍍膜機循環(huán)冷卻系統(tǒng)用冷卻外殼，其特征在于，在所述金屬罩體上相鄰兩所述加強圓槽的縱橫間距為100-300mm,上述加強圓槽槽深為12_15mm,所述金屬罩體的厚度為2-5_，根據權利要求1所述的真空鍍膜機循環(huán)冷卻系統(tǒng)用冷卻外殼，其特征在于，所述加強圓槽的大直徑為24-136mm。

真空鍍膜機和蒸發(fā)真空鍍膜機的差異

真空鍍膜機是在中間設置真空室，在真空室的左右兩側設置左右大門，而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，可在該雙門上預留該兩裝置的接口，以備需要時換裝。真空鍍膜機一般都是由真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、薄膜卷繞系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等主要部分組成。

當薄膜運行速度達到一定數值后，打開擋板使氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。

通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄膜的移動速度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500。而蒸發(fā)真空鍍膜機是專業(yè)在塑料表面進行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的設備，鍍出的膜層牢固且細密，是工業(yè)化生產的理想設備，其特點是它的環(huán)保性，真空鍍膜設備屬于無三廢、無污染的清潔生產設備，無須環(huán)保部門審批。分為立式和臥式。

蒸發(fā)真空鍍膜設備成膜速率快，膜層牢固，色澤鮮亮，膜層不易受污染，可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不產生廢液、廢水，可避免對環(huán)境的污染，是大規(guī)模生產的理想設備。離子真空鍍膜機是當今世界上用于表面涂裝PVD膜層的先進設備,運用PLC及觸摸屏實現自動化邏輯程序控制操作,設備結構合理、外觀優(yōu)雅、性能穩(wěn)定、操作達到人機對話，簡便。

真空鍍膜機對環(huán)境的要求

真空鍍膜機在使用的時候，難免會因為使用的問題使得真空鍍膜機沾上其他污染物，所以經常清洗真空鍍膜機也成為保養(yǎng)機器的一個重要部分，在真空鍍膜機使用鍍膜材料鍍膜之前，對鍍膜材料做簡單的表面清潔能延長鍍膜機使用壽命，因為各種污染物不僅使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度，還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

一般在使用中，真空鍍膜機常見的污染物有：

1、油脂包括加工、裝配、操作的時候沾染上的潤滑劑、切削液、真空油脂等；

2、操作時候的手汗，吹氣的時候的水汽和唾液等等；酸、堿、鹽類物質清洗時的殘余物質、手汗、水中的礦物質等；還有拋光殘渣及環(huán)境空氣中的塵埃和其它有機物。

清潔這些污染物可以改進真空鍍膜機工作穩(wěn)定性，使工作可以更順利的進行。