國外于60年前開始生產稀土拋光粉，二十世紀90年代已形成各種標準化、系列化的產品達30多種規(guī)格牌號。

　　目前，國外的稀土拋光粉生產廠家主要有15家（年生產能力為200噸以上者）。其中，法國羅地亞公司年生產能力為2200多噸。是目前大的稀土拋光粉生產廠家。美國的拋光粉年產量能力達1500噸以上。

。日本生產稀土拋光粉的原料采用氟碳礦、粗氯化和氯化稀土三種，工藝上各不相同。日本稀土拋光粉的生產在燒結設備和技術上均具特色。1968年，我國在上海躍龍化工廠研制成功稀土拋光粉。

以上原料中除種外，第2,3,4種均含輕稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2為主，w（CeO2）為48%~50%.我國具有豐富的資源，據(jù)測算，其工業(yè)儲量約為1800萬噸（以CeO2計），這為今后我國持續(xù)發(fā)展稀土拋光粉奠定了堅實的基礎，也是我國獨有的一大優(yōu)勢，并可促進我國稀土工業(yè)繼續(xù)高速發(fā)展。

　　1.4主要生產工藝及設備

　　1.4.1高系稀土拋光粉的生產

　　以稀土混合物分離后的氧化為原料，以物理化學方法加工成硬度大，粒度均勻、細小，呈面心立方晶體的粉末產品。其主要工藝過程為：原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級→過濾→烘干→系稀土拋光粉產品。

原料→干法細磨→配料→混粉→焙燒→磨細篩分→低級系稀土拋光粉產品。主要設備：球磨機，混料機，焙燒爐，篩分機等。主要指標：產品中w（REO）≥95%,w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;產品粒度為1.5μm~2.5μm.該產品適合于眼鏡片、電視機顯象管的高速拋光之用。目前，國內生產的低級系稀土拋光粉的量，約占總產量的90%以上。

稀土拋光粉的應用

　　由于系稀土拋光粉具有較優(yōu)的化學與物理性能，所以在工業(yè)制品拋光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密制品等的拋光。

　　高系稀土拋光粉，主要適用于精密光學鏡頭的高速拋光。實踐表明，該拋光粉的性能優(yōu)良，拋光效果較好，由于價格較高，國內的使用量較少。