在相對濕度較高的環(huán)境中，濃縮水形的毛細管力在顆粒和表面之間形成了連接鍵，可以增加顆粒與硅質表面的黏附力。相對濕度小于50%時并不重要，但當相對濕度在70%左右時，就成為顆粒之間黏附的主要力量。 到目前為止，在半導體無塵車間、潔凈室中迫切需要適當控制的是光刻膠的敏感性。由于光刻膠對相對濕度極為敏感的特性，它對相對濕度的控制范圍的要求是嚴格的水準。 實際上，相對濕度和溫度對于光刻膠穩(wěn)定性以及的尺寸控制都是很關鍵的。甚至是在恒溫條件下，光刻膠的粘性將隨著相對濕度的上升而迅速下降。當然，改變粘性，就會改變由固定組分涂層形成的保護膜的厚度。相對濕度的3%的變異將使保護厚度改變59.2A。 此外，在高的相對濕度環(huán)境下，由于水分的吸收，使烘烤循環(huán)后光刻膠膨脹加重。光刻膠附著力同樣也可 以受到較高的相對濕度的影響;較低的相對濕度(約30%)使光刻膠附著更加容易，甚至不需要聚合改性劑，如六二硅氮烷(HMDS)。

濕度控制是無塵車間生產必需具備的重要條件

濕度控制是無塵車間生產必需具備的重要條件，相對濕度是無塵車間、潔凈室運作過程中一個常用的環(huán)境控制條件。半導體無塵車間、潔凈室中的典型的相對濕度的目標值大約控制在30至50%的范圍內，允許誤差在±1%的狹窄的范圍內，例如光刻區(qū)或者在遠紫外線處理(DUV)區(qū)甚至更小而在其他地方則可以放松到±5%的范圍內。 近年，在這些規(guī)定范圍中保持處理空氣過程,天津凈化工程為大家介紹一下相對濕度有一系列可能使?jié)崈羰铱傮w表現下降的因素，其中包括： 1、細菌生長; 2、工作人員感到室溫舒適的范圍; 3、出現靜電荷; 4、金屬腐蝕; 5、水汽冷凝; 6、光刻的退化; 7、吸水性。

藥廠凈化車間設計及安裝過程中避免出現不易清潔的部位，進行凈化裝修時要控制作業(yè)過程中的發(fā)塵量，并及時進行清理，所有的門窗安裝與建筑裝飾、凈化空調、各種管線、照明燈具的結合部位縫隙要密封處理。

潔凈室不宜采用砌筑墻抹灰墻面，當采用時宜干燥作業(yè)，抹灰應采用高等抹灰標準。墻面抹灰后應刷涂料面層，并應選用難燃、不開裂、耐清洗、表面光滑、不易吸水變質發(fā)霉的涂料。

制藥工業(yè)廠房的安全防火要根據生產過程中使用、產生及存儲的原料、中間品和成品的物理化學性質和數量及其火災危險程度和生產過程的性質等情況來確定。

對于化學合成的生產廠房，其建筑物應采用一、二級耐火等級；對于的結晶精制、干燥等工序以及制劑生產用潔凈廠房，耐火等級要求不低于二級，建筑構配件耐火性能應與甲、乙類火災危險等級相適宜。