磁控濺射真空鍍膜機運作就是通過真空狀態(tài)下正交磁場是電子轟擊亞氣形成的亞離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。

真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來進行控制，每個抽氣口都要同時開動并力度一致，這樣就能控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制，太短會造成真空度不夠，但太長又浪費資源，不過有真空計的存在，要控制好還是不成問題的。

磁控濺射真空鍍膜機導(dǎo)致不均的因素哪些？專業(yè)從事這方面工作的朋友其實還是比較的了解的，它主要可以分為以下幾個因素就是：真空狀態(tài)、磁場、亞氣。

磁場是正交運作的，但你要將磁場強度做到一定均勻是不可能的，一般磁場強的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以會造成膜層厚度的不一致，不過在生產(chǎn)過程中，由于磁場的不均勻?qū)е碌哪硬痪鶆虻那闆r卻不是常見的，為什么呢？

東莞市仁睿電子科技有限公司主營加工：光學(xué)鍍膜、光學(xué)玻璃鍍膜、光學(xué)鏡片鍍膜、真空光學(xué)鍍膜、光學(xué)真空鍍膜、染色加工、塑料染色加工、杯子漸變加工、塑料漸變加工、亞克力面板、視窗鏡片、PC手機殼。

光學(xué)鍍膜還可以用于制造超導(dǎo)膜和慣性約束巨變反應(yīng)用的微珠鍍層。此外還可以對珠寶、鐘表外殼表面、紡織品金屬花紋、金絲銀絲線等用蒸發(fā)光學(xué)鍍膜蒸鍍裝飾用光學(xué)鍍膜，以及采用濺控濺射光學(xué)鍍膜對刀具、模具等制造超硬膜。