磁控濺射鍍膜設(shè)備鍍膜優(yōu)勢(shì)

磁控濺射鍍膜機(jī)有很多種類型，有中頻的，也有直流的。在生活中應(yīng)用也是非常的廣泛，如：手提電腦、手機(jī)殼、電話、無(wú)線通訊、試聽電子、工具、表殼、手機(jī)殼、五金等。它的優(yōu)勢(shì)也是非常的凸顯.

磁控濺射鍍膜設(shè)備配置了等離子體處理裝置，磁控濺射陰極和電阻蒸發(fā)裝置等，設(shè)備沉積速率快，鍍層附著力好，鍍層細(xì)膩致密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好;該機(jī)實(shí)現(xiàn)鍍膜工藝全自動(dòng)化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產(chǎn)成本低，綠色環(huán)保。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于電腦殼、手機(jī)殼、家用電器等行業(yè)，可鍍制金屬膜、合金膜、復(fù)合膜層、透明(半透明)膜、不導(dǎo)電膜、EMI電磁屏蔽膜等。

磁控濺射鍍膜機(jī)將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一真空鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子賤出并部分離化沉積在基材成膜，同時(shí)又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其氣化再沉積在基材上成膜，增加了設(shè)備的用途和靈活性。該設(shè)備應(yīng)用于手機(jī)殼等塑料表面金屬化，應(yīng)用于不導(dǎo)電膜和電磁屏蔽膜沉積。

鍍膜行業(yè)發(fā)展的趨勢(shì)

當(dāng)今鍍膜行業(yè)制作方式主要有兩種，一種是化學(xué)氣象沉積，一種是化學(xué)鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學(xué)鍍膜是把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)所需其他氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過(guò)程。在化學(xué)薄膜的過(guò)程中，容易產(chǎn)生溶液污染，如果鍍層表面雜質(zhì)多，鍍出來(lái)的效果不好。

化學(xué)鍍膜需要的反應(yīng)溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無(wú)法受此高溫，及時(shí)硬質(zhì)合金，雖然能經(jīng)受高溫，但在化學(xué)鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會(huì)造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質(zhì)合金上鍍TiN，晶體擴(kuò)散出來(lái)的碳會(huì)與溶液發(fā)生反應(yīng)形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強(qiáng)度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機(jī)很好的解決了化學(xué)鍍膜產(chǎn)生的一系列問(wèn)題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電技術(shù)，利用其他放電是靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過(guò)等離子體沉積在工件表面，解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問(wèn)題，不會(huì)產(chǎn)生有毒或污染物質(zhì)，鍍出來(lái)的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命提高2~10倍。

真空電鍍?cè)O(shè)備的監(jiān)控方法

真空電鍍?cè)O(shè)備的監(jiān)控方法 1、目視監(jiān)控：使用眼睛監(jiān)控，因?yàn)楸∧ぴ谏L(zhǎng)的過(guò)程中，由于干涉現(xiàn)象會(huì)有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來(lái)控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準(zhǔn)確，需要依靠經(jīng)驗(yàn)。 2、極值監(jiān)控法：當(dāng)膜厚度增加的時(shí)候其反射率和穿透率會(huì)跟著起變化，當(dāng)反射率或穿透率走到極值點(diǎn)的時(shí)候，就可以知道鍍膜之光學(xué)厚度ND是監(jiān)控波長(zhǎng)（入）的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大，因?yàn)楫?dāng)反射率或者透過(guò)率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長(zhǎng)處。 3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點(diǎn)不在監(jiān)控波長(zhǎng)四分之一波位，然后由計(jì)算機(jī)計(jì)算在波長(zhǎng)一時(shí)總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點(diǎn)。