微弧氧化膜的優(yōu)勢

微弧氧化膜與普通陽極氧化膜相比， 這種膜的空隙率大大降低，從而使耐蝕性和耐磨性有了較大提高。目前，微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于Al、Mg、Ti 等有色金屬或其合金的表面處理中。鎂合金微弧氧化技術(shù)所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相組成，總膜厚可達100 Lm以上, 具有明顯的三層結(jié)構(gòu): 外部的疏松層、中間的致密層和內(nèi)部的結(jié)合層。經(jīng)微弧氧化后，借助天然散色光或在日光下目測檢驗，觀察氧化層的孔隙大小、色澤均勻程度、有沒有斑點、脫皮等現(xiàn)象。

微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化

微弧氧化的陶瓷膜較陽極氧化膜在防腐蝕、耐磨性、電絕緣性和裝飾性等方面都有明顯的改善和提高，但并不意味著微弧氧化就屬于市場的專有產(chǎn)物。事實上，微弧氧化正體現(xiàn)出非常明顯的普及趨勢。微弧氧化由于具有工藝簡單、占地面積小、、效果強、適合規(guī)模生產(chǎn)，又對環(huán)境污染小，因此目前在諸多行業(yè)都處于蓬勃發(fā)展的時期?？梢灶A(yù)見在未來的輕金屬領(lǐng)域，微弧氧化工藝也將會迎來大規(guī)模應(yīng)用的時代。微弧氧化采用低電壓方式，配置特質(zhì)的電解液，通過瞬時的等離子光化學(xué)反應(yīng)，高溫離子尚未破壞到母材表層的情況下，母材外表形成一層硬質(zhì)氧化維護膜，從而達到對母材表面處理的效果。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源

微弧氧化封孔處理

由于微弧氧化陶瓷層表面分布著大量的微孔放電通道，腐蝕介質(zhì)能通過孔隙浸入鎂合金基體產(chǎn)生腐蝕，在微弧氧化后對鎂合金表面進行封孔處理，在孔隙的吸附作用下，封孔劑循著這些微孔或裂紋進入并填充，降低氧化膜的孔隙率，使外層疏松層逐漸變得致密，膜層與基體結(jié)合良好，復(fù)合膜層具有更加致密和均勻的微結(jié)構(gòu)，腐蝕電位正移，腐蝕電流密度降低，腐蝕電阻增大，進一步提升了MAO陶瓷層的耐蝕耐磨能力，同時可以增加膜層的色澤，改善膜層的美觀性，或為其他膜層和結(jié)構(gòu)材料的制備提供優(yōu)良的襯底。隨著裝備輕量化要求和材料高性能要求的不斷提高，鎂合金因具有低密度、高比強度、高比剛度、優(yōu)異的阻尼減振降噪能力及電磁屏蔽性能等特點在航空航天、裝備等領(lǐng)域應(yīng)用前景廣闊。

鋁微弧氧化染色不均的解決方法

1、氧化后工件在水槽中放置時間太久。提倡及時染色，如果這種情況已經(jīng)發(fā)生，可將工件放在陽極氧化槽中或xiao酸中和槽中適當(dāng)活化處理后再進行染色，效果會很好。

2、選用染料不當(dāng)。需選用合適染料。

3、氧化溫度過低，導(dǎo)致皮膜致密。可適當(dāng)提高氧化溫度。

4、染料已分解或霉變，此時需更換染料。