真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜......

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

　　真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富?？傮w來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。

真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術，通常稱為干式鍍膜技術。

眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。

淺談真空鍍膜的幾大優(yōu)勢

 一：堆積資料廣泛：可堆積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法堆積的低電位金屬，通以反響氣體和合金靶材更是能夠堆積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，并且能夠根據需要規(guī)劃涂層系統(tǒng)。

二：節(jié)省金屬資料：因為真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕功能等適當優(yōu)良，堆積的真空電鍍鍍層能夠遠遠小于慣例濕法電鍍鍍層，到達節(jié)省的意圖。

　真空鍍膜能使原材料具有許多新的、的物理和有機化學特點。二十世紀七十年代，在物品表面上表面的表層的鍍膜的方法重要有電鍍法和化學鍍鎳法。前邊一種是依據插線，使鋰電鋰電池電解液電解水，被電解水的等離子噴涂到作為另一個電極的基本表面上，因此這類表面的表層的鍍膜的規(guī)范，基本盡量是電的良導體，而且塑料膜厚薄也沒法控制。后邊一種是采用有機化學還原法，盡量把膜材配備成溶液，并能迅速報考報名參加氧化還原反應，這類表面的表層的鍍膜方法不僅塑料膜的結合抗拉強度差，而且表面的表層的鍍膜既不均勻也不易控制，此外還會繼續(xù)再次導致許多的污水，造成 情況嚴重的空氣污染。因此，這二種被大伙兒稱之為濕式表面的表層的鍍膜法的表面的表層的鍍膜制作工藝遭到了十分大的限制。