對比

滲碳

氮化

目的

提高工件表面硬度、耐磨性及疲勞強(qiáng)度，同時保持心部良好的韌性。提高工件表面硬度、耐磨性及疲勞強(qiáng)度，提高耐蝕性。

用材

含0.1-0.25%C的低碳鋼。碳高則心部韌性降低。為含Cr、Mo、Al、Ti、V的中碳鋼。常用方法

氣體滲碳法、固體滲碳法、真空滲碳法

氣體氮化法、離子氮化法

溫度

900～950℃

500～570℃

表面厚度

一般為0.5～2mm不超過0.6～0.7mm用途

廣泛用于飛機(jī)﹑汽車和拖拉機(jī)等的機(jī)械零件﹐如齒輪﹑軸﹑凸輪軸等。用于耐磨性、精度要求高的零件及耐熱、耐磨及耐蝕件。如儀表的小軸、輕載齒輪及重要的曲軸等。

物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過氣相過程，在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。

物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡單、省材料、無污染；獲得的膜層膜基附著力強(qiáng)、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點(diǎn)。

廣泛用于機(jī)械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤、超導(dǎo)等薄膜。

氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì)，通過物理或化學(xué)的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。

根據(jù)沉積過程的原理不同，氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)兩大類。

電泳 ( ED-Electrophoresisdeition )

電泳：用于不銹鋼、鋁合金等，可使產(chǎn)品呈現(xiàn)各種顏色，并保持金屬光澤，同時增強(qiáng)表面性能，具有較好的防腐性能。

工藝流程：前處理→電泳→烘干

技術(shù)特點(diǎn):

優(yōu)點(diǎn)：

2、無金屬質(zhì)感，可配合噴砂、拋光、拉絲等；

4、工藝成熟、可量產(chǎn)。

缺點(diǎn)：掩蓋缺陷能力一般，壓鑄件做電泳對前處理要求較高。

沉積膜層主要指依靠電能、動能或熱能，將成膜原子、分子或離子輸送至基體表面，進(jìn)而發(fā)生凝聚形成的膜層。一般而言，形成的涂層化學(xué)成分多樣，可以根據(jù)需求和應(yīng)用不同選擇無機(jī)或有機(jī)成分甚至金屬涂層。由于加工方法的多樣性和差異性，形成的沉積膜層與基體的結(jié)合強(qiáng)度變化也很大。目前形成沉積膜層的方法主要包括噴涂（spraying）、氣相沉積（vapor deition）、溶膠-凝膠法（sol-gel）以及仿生沉積（biomimetic）等。