ZF500有機蒸發(fā)鍍膜機

廣泛應用于高校材料、物理、化學、電子、能源等相關學科以及科研院所制備高質量功能薄膜、蒸鍍電極等，半導體、有機EL、OLED顯示研究與開發(fā)領域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺、 真空抽氣及測量、膜厚測試 、電控系統(tǒng)組成。

技術指標：

極限真空度4×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢復真空時間：40分鐘可達6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm

樣品臺：尺寸為4英寸4平面樣品；

有機束源爐：數(shù)量：4支，標準型600度控溫；

樣品架：安裝加熱爐。基片的溫度從室溫至600℃（硅片上表面的溫度，只需標定一次即可）

4套擋板系統(tǒng)：動密封手動控制；

樣品擋板（１套），磁力撥叉，

膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999? 

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有機熱蒸發(fā)鍍膜機介紹

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真空：極限真空6*10 -5 帕

工作真空6*10 -4 帕

恢復工作真空時間：連接手套箱≤10分鐘

不連接手套箱，充干燥氮氣≤30分鐘

本套設備配有8個有機源及2個金屬源

金屬蒸發(fā)源和有機蒸發(fā)源可按客戶要求配置

膜厚探頭及膜厚儀有國產(chǎn)或者進口可選

金屬蒸發(fā)源配有1000w電源

有機蒸發(fā)源配有可控溫電源，控溫精度±1℃