PVD是物理氣相沉積技術的簡稱，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱靶材或膜料）氣化成氣態(tài)分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術，常見的PVD沉積技術有：蒸發(fā)技術、濺射技術、電弧技術。

目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蝕性能的方法有添加合金元素和外加防護性鍍層,但主要以添加防護性鍍層(金屬鍍層、有機物鍍層和復合鍍層)為主。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。防護性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。添加鍍層的方法有電鍍、化學鍍、物理氣相沉積等。

真空鍍膜設備應用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見，是必不可少的一項技術。但是真空鍍膜設備在使用一段時間后，表面就會留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果。

那么如何處理真空鍍膜的灰塵呢？

1、設備使用的源材料要符合必要的純度要求。

2、設備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問題。

3、真空鍍膜一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理。

4、真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求。

5、真空鍍膜適當?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。

6、工作人員在操作時需要戴手套、腳套等，要有專門的服裝。

由于灰塵對鍍膜效果會產生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設備中留下灰塵，應該在使用中注意以上幾點來盡量避免，除此也要注意經常清洗，避免灰塵越積越多。

真空鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，分子束外延，激光濺射沉積等很多種。

真空鍍膜設備真空系統(tǒng)技術要求

真空系統(tǒng)能夠通過外接電極進行控制、監(jiān)測、加熱等磁控濺射鍍膜需要對工件進行烘烤除氣、用離子轟擊進行除氣和清洗以提高薄膜的質量和結合力，除此之外還希望能夠監(jiān)測工件鍍膜時的溫度，在線控制薄膜厚度。