20世紀初，不銹鋼被引入到產(chǎn)品設(shè)計領(lǐng)域中，設(shè)計師們圍繞著它的堅韌和抗腐蝕特性開發(fā)出許多新產(chǎn)品，涉及到了很多以前從未涉足過的領(lǐng)域。這一系列設(shè)計嘗試都是非常具有革命性的：比如，消毒后可再次使用的設(shè)備出現(xiàn)在醫(yī)學產(chǎn)業(yè)中。

不銹鋼分為四大主要類型：奧氏體、鐵素體、鐵素體-奧氏體(復(fù)合式)、馬氏體。家居用品中使用的不銹鋼基本上都是奧氏體。

材料特性：衛(wèi)生保健、防腐蝕、可進行精細表面處理、剛性高、可通過各種加工工藝成型、較難進行冷加工。

熱噴涂是將金屬或非金屬材料加熱熔化，靠壓縮氣體連續(xù)吹噴到制件表面上，形成與基體牢固結(jié)合的涂層，從制件表層獲得所需要的物理化學性能。

利用熱噴涂技術(shù)可改善材料的耐磨性、耐蝕性、耐熱性及絕緣性等。

應(yīng)用：航空航天、原子能、電子等技術(shù)在內(nèi)的幾乎所有領(lǐng)域。

真空鍍，就是在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在金屬表面沉積各種金屬和非金屬薄膜的表面處理工藝。

通過真空鍍的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快、附著力好、污染物少等優(yōu)點。

真空濺射鍍原理

按照工藝不同，真空鍍可以分為真空蒸鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍。

物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過氣相過程，在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。

物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡單、省材料、無污染；獲得的膜層膜基附著力強、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點。

廣泛用于機械、航空航天、電子、光學和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學、磁性、壓電、滑潤、超導(dǎo)等薄膜。

氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì)，通過物理或化學的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。

根據(jù)沉積過程的原理不同，氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)兩大類。