短期專利

　　短期專利是指申請人直接向香港特別行政區(qū)知識產(chǎn)權(quán)署提交，經(jīng)形式審查后獲得注冊的發(fā)明專利。旨在保護商業(yè)壽命較短的發(fā)明，只需經(jīng)過一次形式審查和辦理一次注冊手續(xù)。短期專利的保護期限為自在香港特別行政區(qū)的申請日起最長8年(須在第4年屆滿后，續(xù)期一次)，自被香港特別行政區(qū)批準之日起生效(需提交指i定的檢索單位的檢索報告)。

專利權(quán)窮竭

　　專利權(quán)窮竭也稱為專利權(quán)用盡，是指專利權(quán)人對合法投放市場的專利產(chǎn)品或者依照專利方法直接獲得的產(chǎn)品，不再具有控制或者銷售控制權(quán)或者支配權(quán)。

??專利權(quán)窮竭的原由

??(1)專利權(quán)人通過實施其專利，包括銷售、進口其專利產(chǎn)品，或者銷售、進口依照該專利方法直接獲得的產(chǎn)品，或者許可他人實施上述行為后，即已獲取了利益，其專利權(quán)已經(jīng)實現(xiàn)。

??(2)如果在該產(chǎn)品被合法制造、進口并予以售出以后，專利權(quán)人仍可以對該產(chǎn)品享有權(quán)利，將不利于專利產(chǎn)品的流通和利用，從而對產(chǎn)業(yè)進步及科技發(fā)展造成損害，有違專利立法本意。

??專利權(quán)窮竭的注意事項

??(1)專利權(quán)窮竭是針對某一件具體專利產(chǎn)品而言的，即使用或者銷售某一件具體的專利產(chǎn)品或者依據(jù)專利方法直接獲得的產(chǎn)品是否侵權(quán)?

??(2)專利權(quán)窮竭所針對的具體產(chǎn)品，只能是由專利權(quán)人制造或者經(jīng)專利權(quán)人許可制造而合法投放市場的專利產(chǎn)品或者依據(jù)專利方法直接獲得的產(chǎn)品，不法侵權(quán)產(chǎn)品不發(fā)生專利權(quán)窮竭問題。

??(3)專利權(quán)窮竭不是專利權(quán)終止，即任何一件具體專利產(chǎn)品之權(quán)利的窮竭，不會導致專利權(quán)本身的終止或者無效。

外觀設計專利的保護范圍

??通常，可以構(gòu)成外觀設計的組合有：產(chǎn)品的形狀;產(chǎn)品的圖案;產(chǎn)品的形狀和圖案;產(chǎn)品的形狀和色彩;產(chǎn)品的圖案和色彩;產(chǎn)品的形狀、圖案和色彩。

??工業(yè)產(chǎn)品形狀含義

??工業(yè)產(chǎn)品外觀形狀是指對產(chǎn)品造型的設計，也就是指產(chǎn)品外部的點、線、面的移動、變化、組合而呈現(xiàn)的外表輪廓，即對產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)、外形等同時進行設計、制造的結(jié)果;

??工業(yè)產(chǎn)品外觀圖案含義

??工業(yè)產(chǎn)品外觀圖案是指由任何線條、文字、符號、色塊的排列或組合而在產(chǎn)品的表面構(gòu)成的圖形。產(chǎn)品的外觀圖案應當是固定、可見的，而不應是時有時無的或者需要在特定的條件下才能看見。

??工業(yè)產(chǎn)品色彩含義

??工業(yè)產(chǎn)品的色彩是指用于產(chǎn)品上的顏色或者顏色的組合，制造該產(chǎn)品所用材料的本色不是外觀設計的色彩。產(chǎn)品的色彩不能獨立構(gòu)成外觀設計，除非產(chǎn)品色彩變化的本身已形成一種圖案。

??外觀設計專利需要提交的文件

??外觀設計專利請求書、圖片或者照片，各一式兩份。

??要求保護色彩的，還應當提交彩色的圖片或者照片一式兩份。提交圖片的兩份均為圖片，提交照片的兩份均為照片，不得將圖片和照片混用。

??如對圖片或照片需要說明的，應該提交外觀設計簡要說明一式兩份。其中照片要的是這個產(chǎn)品的六面視圖， (前視圖、后視圖、俯視圖、仰視圖、左視圖、右視圖)和立體圖，要求保護圖案的，應提交展開圖和立體圖;要求保護色彩的，應提交彩色和黑白照片或圖片。圖 的大小在3×8厘米到15×22厘米之間。圖片上不能出現(xiàn)陰影或虛線，照片的背景只能有一種顏色，而且照片上除了所要求的外觀設計外，不能有其他任何別的物品。另外，不管提交的是圖片還是照片，各視圖都必須是正視圖。

專利規(guī)避最初的目的是從法律的角度來繞開某項專利的保護范圍以避免專利權(quán)人進行侵權(quán)訴訟，專利規(guī)避是企業(yè)進行市場競爭的合法行為pJ。因此首先對專利規(guī)避設計的實施方法做出回應的多源于法律學者，并隨著專利糾紛案件的不斷積累，總結(jié)與歸納出了相應的組件規(guī)避原則，主要是從刪除、替換、更改以及語義描述的變化等方面進行專利規(guī)避。實際應用中專利規(guī)避設計可遵循的三點原則：

??減少組件數(shù)量以滿足全i面覆蓋原則;

??使用替代的方法使被告主體不同于權(quán)利要求中指出的技術(shù)以防止字面侵權(quán);

??從方法/功能/結(jié)果上對構(gòu)成要件進行實質(zhì)性改變，以避免侵犯等同原則。

??專利規(guī)避設計原則是從侵權(quán)判斷的角度進行分析，根據(jù)權(quán)利要求書分析專利的必要技術(shù)特征，對其進行刪減和替代， 以減少侵權(quán)的可能性。專利規(guī)避設計原則是宏觀層面上的指導方針，對設計人員來說，需要具體可以實施的過程來詳細指導如何在現(xiàn)有專利技術(shù)基礎上進行重組和替代，并且開發(fā)出新的技術(shù)方案繞開現(xiàn)有專利的保護范圍。功能裁剪作為有效的分析工具能夠指導設計人員進行技術(shù)分析，并結(jié)合專利規(guī)避設計原則選擇合理的技術(shù)進行刪除或替代，從根本上突破現(xiàn)有專利的技術(shù)壟斷。