手機(jī)納米膜真空設(shè)備系統(tǒng)的簡(jiǎn)單介紹

　　(1)主泵：在真空系統(tǒng)中，用于獲得所需要真空度來滿足特定工藝要求的真空泵，如真空鍍膜機(jī)中的油擴(kuò)散泵就是主泵。

　　(2)前級(jí)泵：用于維持某一真空泵前級(jí)壓強(qiáng)低于其臨界前級(jí)壓強(qiáng)的真空泵。如羅茨泵前配置的旋片或滑閥泵就是前級(jí)泵。

　　(3)粗抽泵：從大氣壓下開始抽氣，并將系統(tǒng)壓力抽到另一真空泵開始工作的真空泵。如真空鍍膜機(jī)中的滑閥泵，就是粗油泵。

鍍膜制造需要部分耗材1.SIO2顆粒或環(huán)狀(∮300*∮230*T7.5mm,)需要根據(jù)機(jī)臺(tái)配置選用。2.TIO2顆粒。3.晶振片F(xiàn)iltex 6MHZ或INFICON6MHZ。4.監(jiān)控片BK7 Φ142*80*1.8mm,需要根據(jù)機(jī)臺(tái)配置選用。5.銅坩堝,需要根據(jù)機(jī)臺(tái)配置選用。優(yōu)良的防潮、防化學(xué)品和耐溶劑性能優(yōu)良的介電絕緣性能、微米級(jí)的精密制作、極薄的膜層仍具極優(yōu)的電性能、物理機(jī)械性能和防腐蝕功能。6.鋁箔厚度0.05mm*寬610mm。7.電子槍燈絲,需要根據(jù)機(jī)臺(tái)配置選用。8.離子源,需要根據(jù)機(jī)臺(tái)配置選用耗材。

物理氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)，物理氣相沉積技術(shù)由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。氟化物：氟化釹NbF3,BaF2，氟化CeF3，氟化鎂MgF2，LaF3，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們?cè)诟?jìng)相開發(fā)、高可靠性設(shè)備的同時(shí)，也對(duì)其應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展，尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的應(yīng)用進(jìn)行了更加深入的研究。