今天電鍍加工廠帶你看不銹鋼拋光！希望對大家有所幫助。

電化學(xué)拋光能提高零件反光性能；提高耐腐蝕性；降低機(jī)加工件表面硬度；并因降低表面粗糙度而降低摩擦系數(shù)。電化學(xué)拋光也可用來除去物件毛刺等。與機(jī)械拋光相比，電化學(xué)拋光有如下特點(diǎn)。

（1）機(jī)械拋光會產(chǎn)生表面硬化層及磨料夾雜，降低不銹鋼的耐腐蝕性，而電化學(xué)拋光產(chǎn)生鈍化表面，增加不銹鋼的耐腐蝕性。

（2）電化學(xué)拋光對基材有一定要求，如金相組織不均勻時(shí)會產(chǎn)生不均勻的拋光表面，深的劃傷不能被拋光平整。而機(jī)械拋光對基材的要求低得多。

對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。

蒸發(fā)源有三種類型。①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。無環(huán)境污染：目前國家大力倡導(dǎo)生產(chǎn)環(huán)保，因?yàn)橐磺绣儗淤Y料都是在真空環(huán)境下經(jīng)過等離子體堆積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境的損害適當(dāng)小。②高頻感應(yīng)加熱源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。③電子束加熱源：適用于蒸發(fā)溫度較高的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。

蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。

為沉積高純單晶膜層，可采用分子束外延方法。生長摻雜的GaAlAs單晶層的分子束外延裝置如圖2[ 分子束外延裝置示意圖]。目前國內(nèi)外應(yīng)用較廣的是碳化釩(VC)覆層，由于這些碳化物具有很高的硬度(HV=2800～3200)和更嚴(yán)密的組織,所以經(jīng)過TD處理的汽車模具性能大幅提高,具有極高的耐磨性、抗咬合性(拉傷)、耐蝕性。噴射爐中裝有分子束源，在超高真空下當(dāng)它被加熱到一定溫度時(shí)，爐中元素以束狀分子流射向基片?；患訜岬揭欢囟龋练e在基片上的分子可以徙動，按基片晶格次序生長結(jié)晶用分子束外延法可獲得所需化學(xué)計(jì)量比的高純化合物單晶膜，薄膜較慢生長速度可控制在1單層／秒。通過控制擋板,可精準(zhǔn)地做出所需成分和結(jié)構(gòu)的單晶薄膜。